ADLEMA檢漏機(jī)BT4000
反射膜厚儀RM 1000/2000
JEOL 超高壓透射電子顯微鏡JEM-1000
法國Plassys微波等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng) SSDR 150
OAI 5000E 光刻機(jī)
土耳其ADLEMA先進(jìn)的檢漏機(jī)BT4000
技 術(shù) 規(guī) 格
? 尺 寸 :270x200x300mm
? 重 量 :8kg
? 電 源 輸 入 :24 VDC
? 管 徑 :4x2, 6x4, 8x6, 10x8
可 選 特 性
? 電 子 比 例 調(diào) 節(jié) 器
? 可 編 程 24VDC 8輸 出 ， 4輸 入
? 預(yù) 充 液 閥
? 快 速 填 充 閥
? 遠(yuǎn) 程 按 鈕 控 制 盒
? 體 積 測 量
測 試 類 型
? 帶 內(nèi) 部 參 考 的 壓 力 衰 減 測 試
? 壓 力 衰 減 速 度 測 試
? 體 積 測 量
規(guī) 范
? 0.1 0.1 Pa分 辨 率
? 7英 寸 HMI觸 摸 面 板
? 彩 色 顯 示
? USB插 座 使 PC連 接 和 傳 輸 結(jié) 果
? 實(shí) 時(shí) 壓 力 泄 漏 圖
? 可 記 錄 30種 不 同 的 測 試 程 序
? 通 過 USB方 便 的 軟 件 更 新
? 機(jī) 械 啟 動(dòng) /停 止 按 鈕
? Usb ile yaz? l? m g ncelleme
? 密 碼 保 護(hù)
? 操 作 人 員 授 權(quán) 的 機(jī) 械 鑰 匙
? 24V直 流 輸 入 輸 出 (Start, Stop, Fill, Test, OK, NOK)
? 壓 力 單 位 :(mbar, bar, psi, mmHg, mmH20, Pa, HPa, cc/dk, cc/sa, bar/sa
報(bào)價(jià)：面議
已咨詢241次ADLEMA檢漏機(jī)
報(bào)價(jià)：￥1000
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ASML 光刻機(jī) Twinscan NXT:1980Di
Syskey 緊湊式濺射系統(tǒng) Compact Sputter，靈活的基板尺寸，最大可達(dá)6英寸，基板架加熱溫度最高可達(dá)500℃，出色的薄膜均勻性，誤差小于±3%， 最多可配備5個(gè)6英寸磁控濺射源（可選配3或4個(gè)），支持射頻、直流或脈沖直流電源，最多可支持3條氣體管路，支持順序沉積和共沉積。
Syskey 緊湊式熱蒸發(fā)系統(tǒng) Compact Thermal ，靈活的基板尺寸，最大可達(dá)6英寸， 基板架加熱溫度最高可達(dá)500℃，出色的薄膜均勻性，誤差小于±3%，可選配電子束或熱舟蒸發(fā)源（最多3個(gè)），速率控制沉積，可沉積多層薄膜，選用特定目標(biāo)材料
高真空濺射系統(tǒng) HV Sputter，靈活的基板尺寸，最大可達(dá)12英寸或200×200毫米， 基板架加熱溫度最高可達(dá)800℃，出色的薄膜均勻性，誤差小于±3%
超高真空磁控濺射鍍膜機(jī) UHV Sputter,? 基板支架加熱至 800 °C ? 優(yōu)異的薄膜均勻性小于 ±3% ? 磁控濺射源（數(shù)量最多 8 個(gè)），可選強(qiáng)磁版本
Syskey 高真空熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)HV Thermal 高真空熱蒸發(fā)系統(tǒng)可提供的真空環(huán)境 用于常見薄膜沉積，包括金屬、有機(jī)物、鈣鈦礦和化合物。全自動(dòng)系統(tǒng)可滿足各種應(yīng)用要求，包括OLED、OPV、OPD等。
Syskey 超高真空熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)UHV Thermal, ? 靈活的基板尺寸可達(dá) 8 英寸? 基板支架加熱至 800 °C? 優(yōu)異的薄膜均勻性小于 ±3%? 船和電池源（數(shù)量最多 6 個(gè)）? 可以共蒸發(fā)和摻雜。? 用選定的目標(biāo)材料沉積多層薄膜? 可與其他沉積系統(tǒng)集成
Syskey 高真空電子束鍍膜系統(tǒng) HV E-beam， 靈活的基板尺寸可達(dá) 12 英寸，? 優(yōu)異的薄膜均勻性小于 ±3%
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