Syskey 超高真空磁控濺射鍍膜機 UHV Sputter

特高壓環境的特點是壓力低于  Torr，這對科學研究，因為實驗通常需要保持表面處于污染狀態自由邦。我們在制造超導體、自旋電子學、氧化物外延、壓電等的特高壓濺射系統方面經驗豐富。

配置和優勢：

? 基板支架加熱至 800 °C
? 優異的薄膜均勻性小于 ±3%
? 磁控濺射源（數量最多 8 個），可選強磁版本
? 用于非導電或導電目標的射頻、直流或脈沖直流? 使用選定的目標材料沉積多層薄膜
? 可與其他特高壓沉積系統集成