Syskey 超高真空熱蒸發鍍膜機UHV Thermal

特高壓環境的特點是壓力低于  Torr，這非常對科學研究很重要，因為實驗通常要求表面保持無污染狀態。我們在制造特高壓方面很成熟適用于各種應用的熱蒸發系統。

配置和優點：

? 靈活的基板尺寸可達 8 英寸
? 基板支架加熱至 800 °C
? 優異的薄膜均勻性小于 ±3%
? 船和電池源（數量最多 6 個）? 可以共蒸發和摻雜。? 用選定的目標材料沉積多層薄膜
? 可與其他沉積系統集成