Syskey 高真空電子束鍍膜系統 HV E-beam

高真空電子束蒸發系統可提供 Torr的真空環境用于常見的薄膜沉積，包括金屬、半導體、氧化物、氮化物。全自動系統可以滿足各種應用需求，包括MEMS、IC、射頻濾波器、功率器件、光伏、光學等。

配置和優勢：

? 靈活的基板尺寸可達 12 英寸
? 基板支架加熱至 800 °C 或水/油/LN2 冷卻
? 優異的薄膜均勻性小于 ±3%
? 4/6/8 個口袋電子束源（每個口袋最多 40 cc）? 6 kW 電源可支持大部分材料蒸發
? 用選定的目標材料沉積多層薄膜
? 可與其他沉積技術或沉積系統集成