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德國Heidelberg MLA 150 激光光刻機

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產(chǎn)品特點

德國高精密激光直寫繪圖機
非接觸式曝光
可支持GX數(shù)位光刻與灰度光刻

詳細介紹


MLA150專為便于操作而設計,涵蓋過去30年中開發(fā)的激光直寫設備的所有技術知識。它提供了單層和多層應用所需的所有功能,由于MLA150曝光是非接觸式的,因此它可以克服無光罩曝光技術的局限性。

與其他圖形產(chǎn)生器不同的地方不僅在于MLA150易于使用,還有極快的曝光速度。使用小至1微米的結(jié)構(gòu)曝光100x100mm2的區(qū)域僅需要不到10分鐘。透過使用三個不同分辨率的集成攝像頭,可在2分鐘內(nèi)完成多層應用中的套刻對位,套刻對準精度優(yōu)于500nm。

MLA150無光罩激光直寫設備直接曝光圖形的靈活性能,可提升在Life Science, MEMS, Micro-Optics, Semiconductor, Sensors, Actuators, MOEMS, Material Research, Nano-Tubes, Graphene及任何其他需要微結(jié)構(gòu)等領域的工作效率。

 

功能

基板到9 x 9”

標準版:1μm結(jié)構(gòu)

高分辨率版本:結(jié)構(gòu)可達600納米

2暴露面積150 x 150毫米(200 x 200平方毫米可選)

非接觸式曝光

光源為405 nm和375 nm

基于SLM光引擎

多種數(shù)據(jù)輸入格式

校準精度為500納米

背面對齊

實時自動對焦

抵制數(shù)據(jù)庫

自動標記和序列化

   
 


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