Syskey 積沉多腔體鍍膜系系統 PVD Cluster

配置和優勢：

? 靈活的基板尺寸可達 12 英寸
? 基板支架加熱或冷卻
? 優 異的薄膜均勻性小于 ±3%
? 濺射/電子束/熱/離子蝕刻/氧化/退氣
? 用選定的目標材料沉積多層薄膜
? Torr 可選擇用于不同的設備
- 可與手套箱集成

設備可以在真空環境下制造，提供目標設備的最 佳性能。各種PVD技術可以按一定的工藝流程集成在一起。集群工具可以是被定義為設備制造的專用工具。