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橢偏儀 ME-series 光譜橢偏儀
- 品牌：納騰
- 型號： ME-series
- 產地：上海 徐匯區
- 供應商報價：面議
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上海納騰儀器有限公司
更新時間：2025-03-17 17:30:12 -
銷售范圍售全國
入駐年限第10年
營業執照
- 同類產品橢偏儀(2件)
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為您推薦
產品特點
- 實現各種單層到多層的各向同性/各向異性薄膜膜厚、光學常數快速表征
詳細介紹
ME-series
光譜橢偏儀
通過橢偏參數、透射/反射等參數測量
實現各種單層到多層的各向同性/各向異性薄膜膜厚、光學常數快速表征
產品優勢
? 專業光譜橢偏儀解決方案
? 超高精度、快速無損測量
? 系列配置靈活，支持功能定制設計
? 豐富的材料數據庫與算法模型庫
? 可根據不同應用場景支持多功能模塊定制化 配置
技術規格
型號
SE-VM
ME-Mapping
SE-VF
SE-VE
應用定位
通用型
自動型
檢測型
經濟型
基本功能
Psi/Delta 、 N/C/S 、 R/T等光譜
Psi/Delta 、 N/C/S 、 R等光譜
分析光譜
380-1000nm(支持擴展至193-1650nm)
245-1000nm
400-800nm
單次測量時間
≤15s
重復性測量精度
0.01nm
0.05nm
光斑大小
大光斑2-4mm, 微光斑200um/100um
50um/100um
大光斑2-4mm
折射率重復性精度
0.0005
0.001
入射角范圍
45-90°(5°步進)
45-90°
65°
65°
入射角調節方式
手動變角
自動變角
固定角
固定角
找焦方式
手動找焦
自動找焦
手動找焦
手動找焦
Mapping行程
不支持
100*100mm(可選配)
300*300mm(可選配)
不支持
支持樣件尺寸
最 大至180mm
最 大至200mm
最 大至300mm
最 大至160mm
重復性精度指標針對100nmSiO2/Si標準樣件30次重復性測量；
有關Mapping型號命名與其行程尺寸有關，并支持尺寸定制；
儀器具體技術參數需與實際功能模塊、配件有關，表中數據僅供參考。
SE-VM
高精度光譜橢偏儀測量解決方案
可實現科研/企業級高精度快速光譜 橢偏測量，支持多角度，微光斑等高 兼容性靈活配置，多功能模塊定制化 設計，廣泛應用于光通訊/OLED/TP/ 透明導電膜等涉及透明襯底鍍膜測量表征應用。
SE-VE
經濟型光譜橢偏儀解決方案
滿足科研級/企業級絕大多數薄膜光 譜橢偏高性價比測量需求，快速表征 薄膜膜厚以及光學常數等，對于常規 單拋Si/InP/GaAs等襯底鍍膜可實現一鍵測量。
SE-VF
微區測量光譜橢偏解決方案
搭配圖像識別系統可以滿足科研/企業 級各種待測對象微區Pattern的高精度 快速光譜橢偏測量需求
ME-MappingMapping
光譜橢偏測量解決方案
滿足大尺寸基片多點自定義繪制化光 譜橢偏測量需求，支持尺寸定制，實時離線檢測并輸出膜厚形貌分布以及數據報告，廣泛應用于設備廠商/Fab 級鍍膜均勻性快速測量表征
超微光斑橢偏測量解決方案
SE-m 光譜橢偏儀
針對微區測量定制開發的 專用型光譜橢偏儀
可用于針對各類不同厚度襯底 (可低至微米級)上的減反膜、導電膜等薄膜的n/k/d測量，完 美適用于微區圖形的各種光學參數解析。
原位橢偏測量解決方案
SE-i 光譜橢偏儀
針對有機/無機鍍膜工藝研究 的需要開發的原位薄膜在線監 測中的定制化橢偏測量頭
可用于金屬薄膜、無機薄膜、有機 薄膜的蒸鍍、濺射等光學薄膜工藝 過程的實時原位在線監測并實時反 饋測量物性數據。
核心優勢
? 可定制光斑尺寸，最小可達30um
? 超快測量，單次測量時間小于0.5秒
? 系列配置靈活，支持功能定制設計
? 結構緊湊，更適應在線集成測量
光伏專用橢偏解決方案 SE-PV 光譜橢偏儀
針對光伏行業絨面單晶硅或多 晶硅太陽電池表面減反膜測量 定制開發的光伏專用型光譜橢 偏儀
集成電路在線解決方案
半導體自動光譜橢偏儀
采用最 新一代穆勒矩陣式膜厚&OCD測量頭，可針對晶圓片工藝段的二維/三維結構特征或整 體形貌快速無損表征，精 準獲取半導體制造工藝中單層或多層薄膜結構參數信息。
顯示面板在線解決方案
面板在線橢偏測厚儀
針對LCD 、 OLED 等新型平板顯示量產中所涉及的PI 配向膜、光刻膠薄膜、 ITO薄膜、有機發光薄膜、
有機/無機封裝薄膜等質量控制需要而定制在線薄膜測量系統。
應用領域
? 集成電路
? 光伏電池
? LED
? OLED
? 生物化學
? 科學研究
? 二維材料
? 光通訊
? 玻璃蓋板
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