Syskey 超高真空電子束鍍膜 UHV  E-beam,  特高壓環境的特點是壓力低于  Torr，這一點非常重要到科學研究，因為實驗通常需要將表面保持在無污染狀態。我們在制造特高壓電子束系統方面經驗豐富，用于超導體、自旋電子學等。

配置和優勢：

? 靈活的基板尺寸可達 12 英寸
? 基板支架水、油或 LN2 冷卻和傾斜
? 優異的薄膜均勻性小于 ±3%
? 4/6/8 個口袋電子束光源（每個口袋最多 40 cc）
? 6 kW 電源可支持大部分材料蒸發
? 用選定的目標材料沉積多層薄膜
?  Torr 是可選的鋁基約瑟夫森結
? 可與其他沉積系統集成