Syskey Lift-off E-beam 電子束蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)

高真空電子束蒸發(fā)系統(tǒng)可提供或 Torr的真空環(huán)境用于常見的薄膜沉積，包括金屬、半導體、氧化物、氮化物。全自動系統(tǒng)可滿足各種應用需求，包括MEMS、IC、射頻濾波器、功率器件、光伏、光學等，600nm的沉積距離可降低SEY和熱量來自蒸發(fā)劑的影響。

配置和優(yōu)勢：

? 靈活的基板尺寸可達 12 英寸
? 基板支架水、油或 LN2 冷卻
? 優(yōu)異的薄膜均勻性小于 ±3%
? 4/6/8 個口袋電子束源（每個口袋最多 40 cc）? 6 kW 電源可支持大部分材料蒸發(fā)
? 用選定的目標材料沉積多層薄膜
? 負載鎖定是可選的，效率高
? 可與其他沉積系統(tǒng)集成
? 樣品傾斜是可選的