電鏡原位原子力 EM-AFM 電鏡原位原子力顯微鏡
電學原子力 Nano observer 電學原子力顯微鏡
可旋轉顯微鏡 NX-3DM 可旋轉全自動原子力顯微鏡
全自動顯微鏡 NX-HDM 全自動缺陷檢測原子力顯微鏡
原子力顯微鏡 NX-Wafer 全自動晶圓檢測原子力顯微鏡
作為一款缺陷形貌分析的測量儀器，其主要目的是對大型樣品進行缺陷檢測。而儀器所提供的數據不能允許多種錯誤的存在。Park NX20，這款大尺寸樣品原子力顯微鏡，憑借著數據準確性，在半導體和超平樣品行業中大受贊揚，ParkNX20擁有業界便捷的設計和自動界面，讓你在使用時無需花費大量的時間和精力，也不用為此而時時不停的指導初學者。借助這一系列特點，您可以更加專注于解決更為重大的問題，
選項/模式
標準成像 | 電學性能測量 | 機械性能測試 |
? 真正非接觸式 ? 接觸式 ? 側向摩擦力顯微技術（LFM） ? 相位模式，輕敲模式 | ? 導電AFM（ULCA和VECA） ? 靜電力顯微鏡（EFM） ? 壓電力顯微鏡（PFM） ? 掃描電容顯微鏡（SCM） ? 掃描開爾文探針顯微鏡（KPFM） ? 掃描電阻顯微鏡（SSRM） | ? 力調制顯微鏡（FMM） ? （PFM）壓電力顯微鏡 ? 力調制顯微鏡（FMM） ? 壓痕，納米刻蝕 ? 相位成像 |
磁性能 | 熱性能 | |
? 磁力顯微鏡（MFM） | ? 掃描熱顯微鏡（SThM） |
應用
用于失效分析和大型樣品研究的領先的納米計算工具，滿足各個領域的研究
缺陷檢查成像和分析
高分辨率電子掃描模式
對樣品合基片進行表面粗糙度測量
樣品側壁三維結構的測量
報價：面議
已咨詢58次原子力顯微鏡
報價：面議
已咨詢62次原子力顯微鏡
報價：面議
已咨詢58次原子力顯微鏡
報價：面議
已咨詢63次原子力顯微鏡
報價：面議
已咨詢63次原子力顯微鏡
報價：面議
已咨詢74次原子力顯微鏡
報價：面議
已咨詢55次原子力顯微鏡
報價：面議
已咨詢2514次
報價：面議
已咨詢2144次
報價：面議
已咨詢61次原子力顯微鏡
報價：面議
已咨詢8553次原子力顯微鏡
報價：面議
已咨詢67次原子力顯微鏡
報價：面議
已咨詢1664次顯微鏡
報價：面議
已咨詢803次大樣品AFM
電子束曝光指利用聚焦電子束在光刻膠上制造圖形的工藝 ， 是光刻工藝的延伸應用 。 電子束曝光系統是實現電子束曝光 技術的硬件平臺，系統的性能決定了曝光工藝關鍵尺寸、拼接和套刻精度等參數。
我們的SERS基底采用創新技術制造，使您可以進行SERS快速和重復測量，從而對SERS活性的樣品進行定性分析和定量分析。
GGB行業，一系列校準基板允許用戶校準多種GGB 行業的Picoprobe?探頭尖端。測量系統校準的基本原理是提供測量系統可以連接到的精確已知標準。
營業執照未審核
分享
收藏
滬公網安備 31011502008050號