Product | Period | Line | Area | Etch depth (Si/quartz) |
Pillars on Hexagonal Lattice | ||||
NAP230/220/340-30*30 | 340nm | 230nm | 30mm | 200nm(Ni) |
P450h_p_50d | 450nm | 50mm dia. | 350nm / 150nm | |
MLP230/500/460-120 | 460nm | 230nm | 120mm dia | 500nm(Si) |
NAP230/100/460-30*30 | 460nm | 230nm | 30mm | 100nm(Ni) |
MLP230/200/460-120 | 460nm | 230nm | 120mm dia | 200nm(Si) |
NAP250/500/500-30*30 | 500nm | 250nm | 30mm | 500nm(Ni) |
NAP270/200/530-30*30 | 530nm | 270nm | 30mm | 200nm(Ni) |
P600h_p_46w46 | 600nm | 46x46mm2 | 450nm / 200nm | |
P600h_p_100d | 600nm | 100mm dia. | 450nm / 200nm | |
S2D-24C2-0808-150-P | 600nm | 165nm | 8×8.3mm | 150nm |
S2D-24C2-0808-350-P | 600nm | 165nm | 8×8.3mm | 350nm |
S2D-18C2-0808-150-P | 600nm | 240nm | 8×8.3mm | 150nm |
S2D-18C2-0808-350-P | 600nm | 240nm | 8×8.3mm | 350nm |
NAP300/300/600-20*20 | 600nm | 300nm | 20mm | 300nm(Ni) |
NAP400/200/600-30*30 | 600nm | 400nm | 30mm | 200nm(Ni) |
NAP310/200/620-30*30 | 620nm | 310nm | 30mm | 200nm(Ni) |
NAP230/200/690-30*30 | 690nm | 230nm | 30mm | 200nm(Ni) |
S2D-18C3-0808-150-P | 700nm | 350nm | 8×8.3mm | 150nm/- |
S2D-18C3-0808-350-P | 700nm | 350nm | 8×8.3mm | 350nm/- |
S2D-24C3-0808-150-P | 700nm | 260nm | 8×8.3mm | 150nm/- |
S2D-24C3-0808-350-P | 700nm | 260nm | 8×8.3mm | 350nm/- |
P750h_p_51w51 | 750nm | 51x51mm2 | 450nm / 200nm | |
P780h_p_20w20 | 780nm | 20x20mm2 | 450nm / 200nm | |
P780h_p_50d | 780nm | 50mm dia. | 450nm / 200nm | |
NAP600/400/800-30*30 | 800nm | 600nm | 30mm | 400nm(Ni) |
P870h_p_100d | 870nm | 100mm dia. | 550nm / 250nm | |
P1000h_p_20w20 | 1000nm | 20x20mm2 | 600nm / 300nm | |
P1000h_p_51w51 | 1000nm | 51x51mm2 | 600nm / 300nm | |
P1000h_p_100d | 1000nm | 100mm dia. | 600nm / 300nm | |
P1500h_p_20w20 | 1500nm | 20x20mm2 | 600nm / 300nm | |
P1500h_p_51w51 | 1500nm | 51x51mm2 | 600nm / 300nm | |
P1700h_p_100d | 1700nm | 100mm dia. | 800nm / 400nm | |
P2000h_p_100d | 2000nm | 100mm dia. | 800nm / 400nm | |
P3000h_p_100d | 3000nm | 100mm dia. | 1000nm / 400nm | |
P3500h_p_100d | 3500nm | 100mm dia. | 1200nm / 500nm | |
P5200h_p_100d | 5200nm | 100mm dia. | 1200nm / 500nm | |
Pillars on Square Lattice | ||||
P300s_p_30w30 | 300nm | 30x30mm2 | 200nm / 100nm | |
P300s_p_100d | 300nm | 100mm dia. | 200nm / 100nm | |
P400s_p_30w30 | 400nm | 30x30mm2 | 300nm / 100nm | |
P400s_p_100d | 400nm | 100mm dia. | 300nm / 100nm | |
NAP100/100/400-30*30 | 400nm | 100nm | 30mm | 100nm(Ni) |
NAP230/200/460-30*30 | 400nm | 100nm | 30mm | 200nm(Ni) |
P500s_p_30w30 | 500nm | 30x30mm2 | 400nm / 150nm | |
P500s_p_100d | 500nm | 100mm dia. | 400nm / 150nm | |
P560s_p_80d | 560nm | 80mm dia. | 400nm / 150nm | |
P600s_p_100d | 600nm | 100mm dia. | 500nm / 250nm | |
NAP400/200/600-30*30 | 600nm | 400nm | 30mm | 200nm(Ni) |
NAP400/400/600-30*30 | 600nm | 400nm | 30mm | 400nm(Ni) |
NAP230/200/690-30*30 | 690nm | 230nm | 30mm | 200nm(Ni) |
S2D-18B3-0808-150-P | 700nm | 350nm | 8×8.3mm | 150nm/- |
S2D-18B3-0808-350-P | 700nm | 350nm | 8×8.3mm | 350nm/- |
S2D-24B3-0808-150-P | 700nm | 260nm | 8×8.3mm | 150nm/- |
S2D-24B3-0808-350-P | 700nm | 260nm | 8×8.3mm | 350nm/- |
P800s_p_100d | 800nm | 100mm dia. | 500nm / 200nm | |
NAP300/600/800-20*20 | 800nm | 300nm | 20mm | 600nm(Ni) |
NAP600/400/800-30*30 | 800nm | 600nm | 30mm | 400nm(Ni) |
NAP250/250/1000-20*20 | 1000nm | 250nm | 20mm | 250nm(Ni) |
NAP500/250/1000-20*20 | 1000nm | 500nm | 20mm | 250nm(Ni) |
其他規格,詳詢,可定制
報價:面議
已咨詢61次模板庫
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已咨詢50次模板庫
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已咨詢41次探針臺耗材
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已咨詢44次探針臺耗材
報價:面議
已咨詢58次探針臺耗材
報價:面議
已咨詢50次探針臺耗材
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已咨詢72次SEM/TEM/FIB/X-ray耗材
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已咨詢45次SEM/TEM/FIB/X-ray耗材
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已咨詢60次模板庫
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已咨詢80次報價:¥999
已咨詢1064次環境采樣設備
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已咨詢975次環境樣品采集
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已咨詢1357次采泥器
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已咨詢829次環境樣品采集
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已咨詢74次扣式、軟包、圓柱、鋰空等
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已咨詢1480次電子束曝光指利用聚焦電子束在光刻膠上制造圖形的工藝 , 是光刻工藝的延伸應用 。 電子束曝光系統是實現電子束曝光 技術的硬件平臺,系統的性能決定了曝光工藝關鍵尺寸、拼接和套刻精度等參數。
我們的SERS基底采用創新技術制造,使您可以進行SERS快速和重復測量,從而對SERS活性的樣品進行定性分析和定量分析。
GGB行業,一系列校準基板允許用戶校準多種GGB 行業的Picoprobe?探頭尖端。測量系統校準的基本原理是提供測量系統可以連接到的精確已知標準。