簡介
NTT的X射線圖的大特點是高耐X射線輻射性、超清晰圖案和低邊緣粗糙度。本公司基于Ta吸收體圖的SiC膜較為其精確，能為用戶的X射線分析系統評估提供清晰的圖像
有三種X射線圖可應用于各種方面：標準型、高分辨率和高對比度型以及超高分辨率型。可為用戶的系統定制圖案布局和基板尺寸。
項目 | 標準型 XRESO-100 | 高分辨率型 帶較厚Ta 吸收體 XRESO-50HC | 新！！ 超高分辨率 XRESO-20 | |
基板 | 材料、尺寸 | Si 10 mm2 | ||
厚度 | 1mm | 1mm | 0.625mm | |
膜 | 材料、 厚度 | Ru 20 nm SiN 2μm | Ru 20 nm SiC 200 nm SiN 50 nm | Ru 20 nm SiC 200 nm SiN 50 nm |
圖案 | 吸收體、 厚度 | Ta 1μm | Ta 500 nm | Ta 100 nm |
小圖案尺寸 | 100 nm | 50 nm | 20 nm 放射形圖案 | |
圖案區域 | 250μm×350μm | 300μm2 | 300μm2 | |
- X射線顯微鏡
- XUV / X射線相干成像
- 超細X射線檢查
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電子束曝光指利用聚焦電子束在光刻膠上制造圖形的工藝 ， 是光刻工藝的延伸應用 。 電子束曝光系統是實現電子束曝光 技術的硬件平臺，系統的性能決定了曝光工藝關鍵尺寸、拼接和套刻精度等參數。
我們的SERS基底采用創新技術制造，使您可以進行SERS快速和重復測量，從而對SERS活性的樣品進行定性分析和定量分析。
GGB行業，一系列校準基板允許用戶校準多種GGB 行業的Picoprobe?探頭尖端。測量系統校準的基本原理是提供測量系統可以連接到的精確已知標準。
營業執照未審核
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滬公網安備 31011502008050號