Materials List for Nanoimprint Lithography
IPNR-T1000 | Thermal plastic nanoimprint resist 熱塑型納米壓印膠 |
IPNR-T2000 | Thermal curable nanoimprint resist 熱固化型納米壓印膠 |
IPNR-PC1000 | Photo-curable nanoimprint resist (Free radical initiation) 光固化型納米壓印膠（自由基引發(fā)） |
IPNR-PC2000 | Photo-curable nanoimprint resist (cation intiation) 光固化型納米壓印膠（陽離子引發(fā)） |
IPNR-UL1000 | Under-layer polymer for lift off process 舉離型傳遞層材料 |
IPNR-UL2000 | Under-layer polymer etching mask process 刻蝕型傳遞層材料 |
IPNR-UPM | Quick mold fabrication material 快速模板制作材料 |
IPNR-AP | Chlorosilane based adhesion promoter 氯硅烷增粘劑 |
防沾劑 | 我們可以根據(jù)不同襯底提供不同的防沾工藝 |
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已咨詢59次模板庫
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已咨詢61次模板庫
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已咨詢50次模板庫
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已咨詢41次探針臺耗材
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已咨詢44次探針臺耗材
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已咨詢58次探針臺耗材
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已咨詢50次探針臺耗材
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已咨詢72次SEM/TEM/FIB/X-ray耗材
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已咨詢60次模板庫
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已咨詢351次耗材配件
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已咨詢64次納米壓印機
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已咨詢69次納米壓印機
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已咨詢3339次納米壓痕機
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已咨詢2811次光刻/涂布
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已咨詢262次UV-NIL/SmartNIL紫外壓印
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已咨詢657次奧地利EVG納米壓印機、光刻機、鍵合機
電子束曝光指利用聚焦電子束在光刻膠上制造圖形的工藝 ， 是光刻工藝的延伸應(yīng)用 。 電子束曝光系統(tǒng)是實現(xiàn)電子束曝光 技術(shù)的硬件平臺，系統(tǒng)的性能決定了曝光工藝關(guān)鍵尺寸、拼接和套刻精度等參數(shù)。
我們的SERS基底采用創(chuàng)新技術(shù)制造，使您可以進(jìn)行SERS快速和重復(fù)測量，從而對SERS活性的樣品進(jìn)行定性分析和定量分析。
GGB行業(yè)，一系列校準(zhǔn)基板允許用戶校準(zhǔn)多種GGB 行業(yè)的Picoprobe?探頭尖端。測量系統(tǒng)校準(zhǔn)的基本原理是提供測量系統(tǒng)可以連接到的精確已知標(biāo)準(zhǔn)。
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