原子層沉積ALD在光學鍍膜領域的應用
在技術、經濟高度發達的現代社會里，光學薄膜擁有廣闊的應用空間，其領域涉及精密光學儀器、光纖通訊、3C產品屏幕及鏡頭、智能數字相機等。一般來說，光學鍍膜是指在光學玻璃、光纖、陶瓷等各類襯底材料的表面上沉積一層或多層薄膜；這類光學薄膜借助光的干涉效應來改變透射光或反射光的強度、偏振狀態和相位變化，從而實現器件光學性能的優化。傳統的光學鍍膜工藝眾多，如物理氣相沉積法、離子束輔助沉積法、溶膠-凝膠法等。然而，隨著光電系統微縮化、襯底材料多元化以及各類行業應用的創新迭代，以物理氣相沉積(PVD)為代表的傳統薄膜制備方法在膜層厚度控制、致密性、保形性等方面逐漸顯現其不足，而原子層沉積技術（ALD）無論對于納米結構的微觀層面或任意形態光學器件的宏觀層面，均可以原子級精度調整光學材料的特性，成為了當下光學鍍膜的熱門解決方案(圖1)。
ALD薄膜以飽和吸附的layer-by-layer生長模式，可在結構復雜的幾何表面，如大曲面及高縱深比深孔結構，大面積形成高均勻性薄膜，且膜層相較于PVD膜更為致密，在界面處的結合力更強(圖2-3)，更適用于未來工業界先進精密光學器件的制造。
ALD可于原子級尺度控制膜層厚度，配合商用光學建模軟件生成的光學膜系結構，沉積高質量光學膜層，從而可化優化器件光學性能，如ALD增透膜在可見光波段實現< ~0.5%反射(圖4)。此外，在結構復雜的3D玻璃表面沉積ALD光學薄膜，可在曲面不同方向上均獲得光學減反性能(圖5)，這是傳統技術難以實現的，且上述特質可在量產線上穩定實現，適于任意形狀的光學器件、球型透鏡、光柵等應用的批量鍍膜。
圖1: ALD技術應用于曲面鏡及數碼相機鏡頭
圖2：ALD與PVD均勻性及保形性對比
圖3：ALD光學鍍膜樣品橫截面電鏡圖
圖4：未處理與ALD-AR膜玻璃片反射波譜圖
相關產品
全部評論(0條)
推薦閱讀
-
- 電池熱失控危機如何化解？Forge Nano ALD 原子層沉積揭示答案！
- Forge Nano 的 Atomic ArmorTM 涂層使電池制造商能夠使用更高能量的材料來制造電池，而不必擔心增加熱失控事件，這應該會減少較大電池組中的熱傳導。
-
- 納米粒子表面工程新突破：原子層刻蝕調控 ALD 包覆顆粒殼層厚度
- 科羅拉多大學（Forge Nano 粉末原子層沉積技術發源地）Steven George 等人使用自行搭建的旋轉床粉末原子層沉積設備和原子層刻蝕（ALE）技術精確控制了 TiO/ZrO核殼納米粒子中
-
- 原子層沉積賦能無鈷 LiNiO? 正極材料，引領全固態鋰電池性能革新！
- 本研究報道了一種基于無鈷 LiNiO?（LNO）正極材料的高能量全固態鋰電池（ASSLBs），通過高壓 O? 合成和原子層沉積（ALD）技術制備了一層獨特的超薄 LixAlyZnzOδ（LAZO）保護
-
- MFC質量流量控制器在ALD設備中的應用詳解
- 質量流量控制器（Mass Flow Controller, MFC）在原子層沉積設備中扮演著關鍵角色，其高精度、快速響應和穩定性對實現ALD工藝的高質量薄膜沉積至關重要。
①本文由儀器網入駐的作者或注冊的會員撰寫并發布，觀點僅代表作者本人，不代表儀器網立場。若內容侵犯到您的合法權益，請及時告訴,我們立即通知作者，并馬上刪除。
②凡本網注明"來源：儀器網"的所有作品，版權均屬于儀器網，轉載時須經本網同意，并請注明儀器網(www.yosen.net.cn)。
③本網轉載并注明來源的作品，目的在于傳遞更多信息，并不代表本網贊同其觀點或證實其內容的真實性，不承擔此類作品侵權行為的直接責任及連帶責任。其他媒體、網站或個人從本網轉載時，必須保留本網注明的作品來源，并自負版權等法律責任。
④若本站內容侵犯到您的合法權益，請及時告訴,我們馬上修改或刪除。郵箱：hezou_yiqi
濟南辰馳試驗儀器有限公司
滬公網安備 31011502008050號
參與評論
登錄后參與評論