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Syskey RIE 反應(yīng)離子刻蝕機(jī)
- 品牌：SYSKEY
- 產(chǎn)地：臺(tái)灣 臺(tái)北
- 供應(yīng)商報(bào)價(jià)：面議
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
更新時(shí)間：2025-07-25 10:32:41 -
銷售范圍售全國(guó)
入駐年限第7年
營(yíng)業(yè)執(zhí)照已審核
- 同類產(chǎn)品Syskey 臺(tái)灣(3件)
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產(chǎn)品特點(diǎn)
- Syskey RIE 反應(yīng)離子刻蝕機(jī)，用于氧化物和氮化物蝕刻的 RIE 系統(tǒng)。氣體管線可實(shí)現(xiàn)硅基材料刻蝕。全自動(dòng)作，支持一鍵工序。
詳細(xì)介紹
Syskey RIE 反應(yīng)離子刻蝕機(jī)
用于氧化物和氮化物蝕刻的 RIE 系統(tǒng)。CF4 , CJF3 、S2F6, Ar, O2氣體管線可實(shí)現(xiàn)硅基材料刻蝕。全自動(dòng)作，支持一鍵工序。
配置和優(yōu)勢(shì)：
? 靈活的基板尺寸可達(dá) 12 英寸
? 基板支架水冷
? 優(yōu)異的薄膜均勻性，低于 ±5%
? 6 條反應(yīng)性氣體管路，適用于 蝕刻
? 使用選定的靶材蝕刻多層薄膜
? 負(fù)載鎖定是可選的
? 終點(diǎn)檢測(cè)器是可選的
? 背氦冷卻是可選的系統(tǒng)鍵
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