電子束光刻機（多功能超高精度電子束光刻機P21）

依托壟斷性專 利技術，百及納米推出國際領先的超高精度大面積寫場電子束光刻機 P21 系列。 百及納米S次開發了新一代電子束光刻機的電子束閉環控制新原理。百及超高精度電子束光刻機 P21 是第 一款新一代電子束光刻機的代表，在著名電子束光刻機制造商德國 Raith 公司的成熟機型上 升級而成。該系列主要包括 P21-2，P21-4 和 P21-6 三個型號，區別主要在于樣品尺寸（2，4，6 英寸晶圓）及擴展使用功能。P21 不僅完整地保留了原電子束光刻機的整體功能，且集多項國際領先的關 鍵指標于一身，包括：

 ? 國際上S次開發的新穎電子束閉環控制系統，能夠實現電子束的原位檢測與校正; 

 ? 國際領先的寫場拼接精度≤2 nm; 

 ? 電子束光刻的長期穩定性。精確校正電子束的空間漂移，將其位置穩定性提高到≤10 nm/h； 有利于通過提高電子束光刻時間實現大尺寸圖形的曝光需求。 

百及納米的 P21 系列以常規電子束光刻機為載體，通過獨 家專 利技術對其進行功能及性能指標的大幅提升。P21 光刻機組件均為德國原裝制造，以高品質、高性能滿足客戶的科研高端需求，實現新 一代超高精度電子束光刻功能。