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德國 Sentech 多晶圓等離子刻蝕機 SI 500-300

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SI 500-300多晶圓等離子刻蝕機

300 mm / 400 mm 載板,用于多片晶圓

詳細介紹

ICP-RIE Plasma Etcher - SI 500-300 Multiwafer 

SI 500-300多晶圓等離子刻蝕機

? 300 mm / 400 mm 載板,用于多片晶圓
? 大玻璃板(光學元件)
? 掩膜蝕刻

SI 500-300 多晶圓鍵合機.png


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