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等離子開封機
- 品牌:Sidmel
- 型號: SAME200
- 產地:歐洲 俄羅斯
- 供應商報價:面議
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倬昊納米科技(上海)中心
更新時間:2024-04-21 22:44:05
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銷售范圍售全國
入駐年限第4年
營業執照已審核
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SAME200 是一款用于芯片封裝開封的微波等離子體芯片開封設備。
設備可以刻蝕電介質(氧化硅)和各種聚合物(光刻膠、聚酰亞胺、環氧樹脂)。適用于研發實驗室、FA實驗和小型生產使用。
設備工程師們特別注重系統的用戶友好性能。該系統具備簡單明了的界面,便捷的配方保存功能,無需長期操作培訓,而且對裝置的安裝要求做到了最低標準。
該設備適用于開封包含 Cu、PCC、Ag 等引線的各類先進芯片封裝形式,包括 ED、 SiP、WLCSP、BOAC 等,開封過程對芯片不會造成任何損傷,為集成電路芯片的可靠性和失效分析提供了一種極佳的方案。
系統特點
控制等離子體源輸出功率;
精確控制氣體供應;
記錄流程參數以便進一步分析;
適用于各種塑料封裝;
創建和存儲蝕刻配方;
可對所有類型的引線鍵合進行蝕刻樣品處理
設計緊湊--主機占地面積小于1.0平方米;
易于操作和維護;
沒有危險化學品;
對環境友好;
觸摸屏顯示;
選項和附件可按要求定制;
SAME 200 主要技術特點
尺寸:
主體大小
1400 x 580 x 580 mm
反應室
直徑 200 mm, 120 mm
最大試樣尺寸
直徑 160 mm, 高 80 mm
蝕刻區域
15 x 15 mm
電源:
主電源供應
220V, 單相, 50/60 Hz
清潔干燥空氣(CDA)和氣體:
CDA
壓力6巴
Ar, O2, N2, CF4
壓力1-2巴
流量控制 0 – 200 sccm
等離子體源:
輸出功率
0 – 200 Watt
頻率
2.4-2.5 GHz
發生器控制類型
遠程
蝕刻參數:
來源類型
微波誘導等離子體源
蝕刻材料
SiO2, 塑料包裝,光刻膠, 聚酰亞胺,環氧樹脂
蝕刻時間
用戶自定義
蝕刻速度
超過10um/min
配方
無配方數量限制
運行:
配備Windows或Linux操作系統的大型觸摸屏
安全性能:
應急關機系統
等離子體源冷卻:
用冷卻循環系統對等離子體源進行冷卻