
- 2025-06-23 14:50:33無掩模光刻
- 無掩模光刻是一種先進的半導(dǎo)體制造技術(shù),它無需傳統(tǒng)光刻工藝中的物理掩模,而是利用直接寫入的方式,將圖案精確地刻在硅片上。該技術(shù)通過高精度激光或電子束等直接對硅片表面進行曝光,實現(xiàn)圖案的快速、靈活制作。無掩模光刻具有分辨率高、制作周期短、成本低等優(yōu)勢,在微納加工、集成電路制造等領(lǐng)域展現(xiàn)出廣泛應(yīng)用前景,特別是在定制化和小批量生產(chǎn)中更具優(yōu)勢。
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無掩模光刻資訊
無掩模光刻文章
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- 輕松掌握光刻工藝:后烘
- 后烘,顧名思義,是在光刻膠曝光后,對光刻膠膜進行烘烤的過程。這一過程的主要目的是通過加熱,使光刻膠中的化學(xué)反應(yīng)進一步進行,從而實現(xiàn)光刻膠的固化和圖案的清晰化。
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- 輕松掌握光刻工藝:顯影
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- 堅膜是在光刻膠顯影后進行的烘烤工藝步驟,目的是通過熱交聯(lián)或其他方法,提高光刻膠的化學(xué)或物理穩(wěn)定性,使其在后續(xù)的物理或化學(xué)過程(如濕法或干法蝕刻、電鍍等)中具有更好的工藝穩(wěn)定性和效果。
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- 輕松掌握光刻工藝:清洗與預(yù)處理
- 在高科技的璀璨星空中,光刻工藝以其精細入微的操作,扮演著制造精密芯片的關(guān)鍵角色。而在這復(fù)雜而精密的工藝中,清洗和預(yù)處理環(huán)節(jié)如同精心打磨的基石,承載著確保工藝質(zhì)量的重要使命。
無掩模光刻產(chǎn)品
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無掩模光刻問答
- 2023-06-14 16:49:45無掩膜直寫光刻系統(tǒng)助力二維材料異質(zhì)結(jié)構(gòu)電輸運性能研究,意大利
- 期刊:ACS NanoIF:18.027文章鏈接: https://doi.org/10.1021/acsnano.1c09131 【引言】 MoS2是一種典型的二維材料,也是電子器件的重要組成部分。研究者發(fā)現(xiàn),當(dāng)MoS2與石墨烯接觸會產(chǎn)生van der Waals作用,使之具有良好的電學(xué)特性,可廣泛應(yīng)用于各類柔性電子器件、光電器件、傳感器件的研究。然而,MoS2-石墨烯異質(zhì)結(jié)構(gòu)背后的電輸運機理尚不明確。這主要是因為傳統(tǒng)器件只有兩個接觸點,不能將MoS2-石墨烯異質(zhì)結(jié)構(gòu)產(chǎn)生的電學(xué)輸運特性與二維材料自身的電學(xué)特性所區(qū)分。此外,電荷轉(zhuǎn)移、應(yīng)變、電荷在缺陷處被俘獲等因素也會對器件的電輸運性能產(chǎn)生影響,進一步提高了相關(guān)研究的難度。盡管已有很多文獻報道MoS2-石墨烯異質(zhì)結(jié)構(gòu)的電輸運性能,但這些研究主要基于理論計算,缺乏對MoS2-石墨烯異質(zhì)結(jié)構(gòu)的電輸運性能在場效應(yīng)器件中的實驗研究。 【成果簡介】 2021年,意大利比薩大學(xué)Ciampalini教授課題組利用小型臺式無掩膜直寫光刻系統(tǒng)- MicroWriter ML3 制備出基于MoS2-石墨烯異質(zhì)結(jié)構(gòu)的多場效應(yīng)管器件,在場效應(yīng)管器件中直接測量了MoS2-石墨烯異質(zhì)結(jié)構(gòu)的電輸運特性。通過比較MoS2的跨導(dǎo)曲線和石墨烯的電流電壓特性,發(fā)現(xiàn)在n通道的跨導(dǎo)輸運被抑制,這一現(xiàn)象明顯不同于傳統(tǒng)對場效應(yīng)的認知。借助第一性原理計算發(fā)現(xiàn)這一獨特的輸運抑制現(xiàn)象與硫空位相關(guān)。 本文中所使用的小型臺式無掩膜直寫光刻系統(tǒng)- MicroWriter ML3無需掩膜版,可在光刻膠上直接曝光繪出所要的圖案。設(shè)備采用集成化設(shè)計,全自動控制,可靠性高,操作簡便,同時其還具備結(jié)構(gòu)緊湊(70cm X 70cm X 70cm)、高直寫速度,高分辨率(XY:
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- 2023-06-29 10:11:54無掩膜直寫光刻系統(tǒng)助力二維材料異質(zhì)結(jié)構(gòu)電輸運性能研究,意大利科學(xué)家揭秘其機理!
- 期刊:ACS NanoIF:18.027文章鏈接: https://doi.org/10.1021/acsnano.1c09131引言MoS2是一種典型的二維材料,也是電子器件的重要組成部分。研究者發(fā)現(xiàn),當(dāng)MoS2與石墨烯接觸會產(chǎn)生van der Waals作用,使之具有良好的電學(xué)特性,可廣泛應(yīng)用于各類柔性電子器件、光電器件、傳感器件的研究。然而,MoS2-石墨烯異質(zhì)結(jié)構(gòu)背后的電輸運機理尚不明確。這主要是因為傳統(tǒng)器件只有兩個接觸點,不能將MoS2-石墨烯異質(zhì)結(jié)構(gòu)產(chǎn)生的電學(xué)輸運特性與二維材料自身的電學(xué)特性所區(qū)分。此外,電荷轉(zhuǎn)移、應(yīng)變、電荷在缺陷處被俘獲等因素也會對器件的電輸運性能產(chǎn)生影響,進一步提高了相關(guān)研究的難度。盡管已有很多文獻報道MoS2-石墨烯異質(zhì)結(jié)構(gòu)的電輸運性能,但這些研究主要基于理論計算,缺乏對MoS2-石墨烯異質(zhì)結(jié)構(gòu)的電輸運性能在場效應(yīng)器件中的實驗研究。成果簡介2021年,意大利比薩大學(xué)Ciampalini教授課題組利用小型臺式無掩膜直寫光刻系統(tǒng)- MicroWriter ML3 制備出基于MoS2-石墨烯異質(zhì)結(jié)構(gòu)的多場效應(yīng)管器件,在場效應(yīng)管器件中直接測量了MoS2-石墨烯異質(zhì)結(jié)構(gòu)的電輸運特性。通過比較MoS2的跨導(dǎo)曲線和石墨烯的電流電壓特性,發(fā)現(xiàn)在n通道的跨導(dǎo)輸運被抑 制,這一現(xiàn)象明顯不同于傳統(tǒng)對場效應(yīng)的認知。借助第 一性原理計算發(fā)現(xiàn)這一獨特的輸運抑 制現(xiàn)象與硫空位相關(guān)。本文中所使用的小型臺式無掩膜直寫光刻系統(tǒng)- MicroWriter ML3無需掩膜版,可在光刻膠上直接曝光繪出所要的圖案。設(shè)備采用集成化設(shè)計,全自動控制,可靠性高,操作簡便,同時其還具備結(jié)構(gòu)緊湊(70cm X 70cm X 70cm)、高直寫速度,高分辨率(XY:
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- 2021-11-29 11:06:02Tip 10000ul吸嘴無DNA酶無RNA酶無熱源吸頭
- Tip 10000ul吸嘴無DNA酶無RNA酶無熱源吸頭,大口本生(天津)健康科技有限公司:http://www.bunsen17.com/ 本生生物供應(yīng):光度計,檢測儀,免疫儀,全系熒光定量PCR耗材,移液器,鉆石吸嘴,離心管,凍存管,培養(yǎng)皿,培養(yǎng)板,培養(yǎng)瓶,吸頭,儀器及手套,色譜耗材,針頭過濾器。產(chǎn)品名稱:Tip 10000ul吸嘴,無色,無DNA酶無RNA酶無熱源,袋裝非滅菌,大口產(chǎn)品規(guī)格:100支/包,10包/箱(1000支/箱)CG編號 產(chǎn)品描述 包裝規(guī)格通用型移液器吸嘴,BASIX加長吸嘴23-2033 Tip 10000ul吸嘴,無色,無DNA酶無RNA酶無熱源,袋裝非滅菌,大口 100支/包,10包/箱(1000支/箱)Tip 10000ul吸嘴無DNA酶無RNA酶無熱源吸頭適應(yīng)客戶:醫(yī)院檢驗科PCR實驗室,實驗室;第三方檢測機構(gòu),科研院所,大專院校,制藥廠,試劑生產(chǎn)廠家,疾控,檢驗檢疫。
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- 2019-10-18 10:47:51小型無掩膜光刻直寫系統(tǒng)(MicroWriter)
- 小型臺式無掩膜光刻直寫系統(tǒng)(MicroWriter ML3)是英國Durham Magneto Optics公司專為實驗室設(shè)計開發(fā),為微流控、MEMS、半導(dǎo)體、自旋電子學(xué)等研究領(lǐng)域提供方便GX的微加工方案。傳統(tǒng)的光刻工藝中所使用的鉻玻璃掩膜板需要由專業(yè)供應(yīng)商提供,但是在研發(fā)環(huán)境中,掩膜板的設(shè)計通常需要經(jīng)常改變。無掩膜光刻技術(shù)通過以軟件設(shè)計電子掩膜板的方法,克服了這一問題。與通過物理掩膜板進行光照的傳統(tǒng)工藝不同,激光直寫是通過電腦控制DMD微鏡矩陣開關(guān),經(jīng)過光學(xué)系統(tǒng)調(diào)制,在光刻膠上直接曝光繪出所要的圖案。同時其還具備結(jié)構(gòu)緊湊(70cm X 70cm X 70cm)、高直寫速度,高分辨率(XY:圖8. CsPbBr3 PNC/monolayer MoS2異質(zhì)結(jié)光電器件的制備流程,紅色框所示為利用無掩膜激光直寫系統(tǒng)(MicroWriter)所制備電極結(jié)構(gòu)示意 圖9. (左)利用MicroWriter制備的MoS2基器件的I-V特性曲線,其中所示單層MoS2形貌及表面電極;(右)MicroWriter虛擬掩膜功能(VMA)結(jié)果示意
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