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Nanoscribe Photonic Professional GT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)

品牌：nanoscribe
型號： Photonic Professional GT2
產(chǎn)地：歐洲德國
供應(yīng)商報(bào)價(jià)：面議

納糯三維科技（上海）有限公司更新時(shí)間：2025-03-07 14:28:50

銷售范圍售全國

入駐年限第7年

營業(yè)執(zhí)照已審核

同類產(chǎn)品Quantum X shape(6件)

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產(chǎn)品特點(diǎn)

雙光子聚合技術(shù)所具有的高設(shè)計(jì)自由度，可以在各種預(yù)先構(gòu)圖的基板上實(shí)現(xiàn)波導(dǎo)和混合折射衍射光學(xué)器件等3D微納加工制作。結(jié)合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng)，可以按設(shè)計(jì)需要精確地集成復(fù)雜的微納結(jié)構(gòu)。

詳細(xì)介紹

產(chǎn)品介紹：

3D微納加工技術(shù)應(yīng)用于集成光子學(xué)領(lǐng)域

預(yù)構(gòu)圖復(fù)雜光學(xué)結(jié)構(gòu)的微納加工應(yīng)用

光學(xué)和光電組件的小型化對于實(shí)現(xiàn)數(shù)據(jù)通信和電信以及傳感和成像的應(yīng)用至關(guān)重要。通過傳統(tǒng)的微納3D打印來制作自由曲面透鏡等其他新穎設(shè)計(jì)會有分辨率不足和光學(xué)質(zhì)量表面不達(dá)標(biāo)的缺陷，但是利用雙光子聚合原理則可以完美解決這些問題。該技術(shù)不僅可以用于在平面基板上打印微納米部件，還可以直接在預(yù)先設(shè)計(jì)的圖案和拓?fù)渖暇_地直接打印復(fù)雜結(jié)構(gòu)，包括光子集成電路，光纖尖端和預(yù)制晶片等。這種方法可以在各種材料（例如InP，SOI和Si3N4）上進(jìn)行高精度的原位3D微納加工，從而實(shí)現(xiàn)光學(xué)接口的小型化和無組裝制造。

例如，可以應(yīng)用于將自由曲面微納光學(xué)組件直接打印到芯片上，從而連接多根光纖到一個(gè)芯片上。為了達(dá)到這個(gè)目的，必須將光收集起來，平行于芯片表面重新定向然后傳輸?shù)秸▽?dǎo)中。而Nanoscribe公司基于雙光子聚合原理的無掩模光刻系統(tǒng)擁有高設(shè)計(jì)自由度的特點(diǎn)，可以夠輕松實(shí)現(xiàn)收集光束并傳輸?shù)讲▽?dǎo)中。系統(tǒng)配備的高分辨率處理鏡頭和打印系統(tǒng)的編程接口可以實(shí)現(xiàn)耦合結(jié)構(gòu)與波導(dǎo)的自動對準(zhǔn)，且對準(zhǔn)精度可達(dá)到100 nm。

Nanoscribe的Photonic Professional GT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)可適用于科研和工業(yè)領(lǐng)域應(yīng)用。我們的客戶成功將微納光學(xué)結(jié)構(gòu)直接打印到光子組件上從而實(shí)現(xiàn)從邊緣到表面的全面耦合。而全新的雙光子灰度光刻系統(tǒng)Quantum X則可以應(yīng)用于光子封裝技術(shù)。更多應(yīng)用相關(guān)科研項(xiàng)目請點(diǎn)擊MiLiQuant 和 HandheldOCT.

3D微納加工創(chuàng)新科技

集成光子學(xué)領(lǐng)域應(yīng)用

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