德國Sentech ICP-RIE等離子蝕刻機- SI 500

關鍵特性

.PTSA 200 ICP源

.動態溫度控制

.高速泵送

程序功能

.低損壞

.高縱橫比

.高蝕刻率

Technical features 技術特點

●ICP, 1100 W, 13.56 MHz 

●1360 l/s turbo pump, rotary or dry backing  pump  1360l /s渦輪泵旋轉背襯或干背襯泵

● Magneto pneumatic  loadlock 磁力氣動鎖

● Up to 8 inch wafers 高達8英寸的晶圓

● Gas box for 12/16 gas lines  燃氣箱用于12/16管道

● SENTECH operation software based on Window 置于Sentech 操作軟件窗口

● OES, SLI, liner, heater,chiller, reactor shut-off valve optional  OES 、SLI， 襯里， 加熱器、冷水機、反應器關閉閥 可選