特性

· 閃耀波長400或500 nm

· 在閃耀波長下光柵效率高達60%到80%

· 重影少：小于主反射的0.5%

· 反射鋁膜

· 鈉鈣玻璃基底，300到1800刻線/mm

· 使用有刻線的基底材料生產

QXKJ提供用于可見光區域的刻線衍射光柵。這些光柵在閃耀波長下具有相對明顯的效率峰值，且由帶刻線的基底材料制成。我們提供不同閃耀角的光柵，以滿足需要率的多種光譜學和分析應用。更多信息，請點擊上方的光柵教程標簽。我們還提供全息光柵，它們不會產生重影效應，但效率更低。欲了解不同光柵類型的差異，請點擊上方的光柵指南標簽。

請注意，這些光柵的反射鋁膜是裸露的，沒有保護層。但是可以定制MgF2或金膜來保護光柵的鋁膜表面。金膜在紅外波段具有高性能，而MgF2膜能夠提供保護；詳情請咨詢技術支持

注意

光柵容易因潮濕、指紋、氣溶膠或與任意摩擦材料的輕微接觸而損傷。光柵只能在必要時才拿取，而且只能通過拿著它的邊緣。應該佩戴乳膠手套或類似的防護套，以防手指上的油污接觸光柵表面。清潔時只能使用凈化的干燥空氣或氮氣吹掃光柵，其它任何操作都是不允許的。溶劑很可能會損傷光柵表面。

反射式衍射光柵，閃耀波長400 nm

反射式衍射光柵，閃耀波長500 nm