產品簡介

公司中德技術團隊家研發了一款基于新型掃描探針精 準定位的離子注入 系統，能有效控制注入半導體器件的雜質種類、數量和位置，實現多種離 子（如 H、N、O、Si、P、B、As、Te、Ar 等）的精 準定位定量摻雜注入。該 系統可以滿足量子比特陣列,金剛石中的氮空位中心（NV 色心）以及單原子 器件的工藝精度要求，研制的設備可用于探索納米結構器件、量子比特系 統和量子信息處理器電路的開發。 公司的一項革命性發明專 利，解決了注入離子由于晶格散射帶來的位置 不確定性問題，顛覆性地將注入離子在晶體中位置的誤差縮減到 10nm 以 下，實現納米級精確定位注入摻雜離子。

技術特點：

?   精 準確定位定量離子注入

?   針尖懸臂上的小孔小于50nm

?   錐形電場稀釋和準直離子束

?   橫向電場形成離子閘門

應用領域：

?   功能材料定位摻雜

?   納米尺度功能器件制備

?   固態量子信息技術

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