DENTON 真空使創新成為可能，并已超過50年。

全 球成千上萬的薄膜沉積工具安裝,包括一個大型的、在全 球范圍內安裝的精密光學沉積系統——工程師和研究人員依靠DENTON 的薄膜創新驅動更高的吞吐量,更好的收益和低擁有成本(首席運營官),受益于綜合服務和支持,和一個專門的研發項目,提供可行的技術。

探索者提供了薄膜工業中最廣泛的配置和沉積模式:電子束蒸發、電阻蒸發、濺射、離子鍍和離子輔助沉積。

DENTON 薄膜沉積平臺

?R & D

?批量生產

?在線生產

?蒸發

?濺射

?PE-CVD

DENTON 的區別

你們的過程就是我們的過程。

我們與您合作設計一個系統，以解決您的確切薄膜涂裝工藝的需要。當我們給你運送工具時，它已經準備好生產了。

?我們的系統規模可以滿足您的生產需求

?我們永遠相信客戶

?全 球支持網絡

在DENTON，我們關心你的成功

?工廠驗收測試

?個性化培訓

?遠程、實時支持

?CE / UL / CSA兼容系統

能濺射

電、磁、復合材料。柔性陰極，調整到沖擊角也可用。

強大的控制系統

可在半手動模式或全自動模式與一個推動自動化，以減少系統停機時間。
 

Processpro升級提供:

1.所有登頓真空產品的一致性控制。

2.標準軟件使其易于支持和避免昂貴的定制費用。

3.源代碼為您的程序，以便您可以自定義您的程序。

4.網絡功能使資源管理器

網絡上支持實時、遠程支持和升級的節點。

靈活的室大小

可容納多達10英寸的襯底。

多個泵配置

多種擴散、低溫和渦輪泵配置可用于滿足您的預算和工藝。后方或底部安裝的泵提供方便的訪問服務，根據您的工作場所的需要。

典型的應用

PE-CVD

?材料研究

?小批處理系統

?3 d對象

?覆蓋各種材料

濺射

?材料研究

?產品質量控制和質量保證

?半導體失效分析

?CD掌握

?納米技術

?化合物半導體

?oled

蒸發

?材料研究

?離子輔助沉積(IAD)

?醫療設備

?電信

?CD掌握

?發射

?保護涂層

選項：