VTC-600GD高真空磁控濺射儀
VTC-1HD-ZF2高真空磁控濺射蒸發鍍膜儀
VTC-1RF-SPC磁控濺射蒸發鍍膜儀
VTC-600G高真空磁控濺射儀
VTC-600-3HD-1000三靶磁控濺射儀
高真空濺射可用于金屬、半導體、絕緣體等多種新型薄膜材料的制備，且具有設備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優點，可廣泛用于大專、科研院所的薄膜材料研究、制備。
1、真空度高。
2、可制備多種薄膜，金屬、半導體、絕緣體等，應用廣泛。
3、體積小，操作簡便。
4、清理安裝便捷。
5、控制可選一體化觸摸屏控制
| 產品名稱 | GSL-CKJS-450-B1磁控濺射 | |
| 安裝條件 | 本設備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水：設備配有自循環冷卻水機（加注純凈水或者去離子水） 2、電：AC380V 50Hz，必須有良好接地 3、氣：設備腔室內需充注氮/氬氣（純度99.99%以上），需自備實驗氣體氣瓶（自帶?10mm雙卡套接頭）及減壓閥 4、場地：設備尺寸3500×1600mm，承重1000kg以上 5、通風裝置：需要 | |
| 主要參數 | 1、主濺射室尺寸：?450×355mm筒形真空室 2、主濺射室真空度：5×10-5Pa 3、永磁靶3套，靶材尺寸φ2″，各靶射頻與直流濺射兼容（其中1個靶可濺射鐵磁材料），靶與樣品距離90-110mm可調 4、三靶共濺，三個靶可共同折向樣品中心，距離40-80mm可調 5、基片加熱與水冷獨立工作，加熱爐可與水冷樣品臺可互換，加熱工位ZG溫度 600℃±1℃ 6、樣品尺寸：φ1″ 7、樣品臺可連續回轉，轉速5-15轉/分 8、基片可加-200V負偏壓 9、公轉6工位樣品臺，可一次性安裝6片φ1″基片， 拆下水冷加熱樣品臺可換上6工位樣品臺，其中5個工位為自然冷卻工位，1個加熱工位，加熱工位溫度 600℃±1℃ | |
| 產品規格 | 整機尺寸：1500×900mm×2000mm； | |
| 標準配件 | 1、電源控制系統1套 2、真空獲得系統1套 3、真空測量裝置1套 | |
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鑲嵌壓力、溫度、時間可任意調整，隨材質的不同變化 進料-鑲嵌-加熱-冷卻-出樣全自動化運行 出樣定位精準，可搭配本公司全自動磨拋系統或其他自動化設備聯動
包含定位載料盤、研磨拋光單元、清洗單元以及供料單元，可以實現從取樣-研磨-清洗-拋光-清洗一體的全程序化自動流程，通過觸摸屏操作可精確控制鑲嵌到磨拋、清洗的所有參數，并能進行參數設定存檔，并可一鍵啟動
UNIPOL-1500M-16自動壓力研磨拋光機主要用于材料研究領域。適用于金屬、陶瓷、玻璃、紅外光學材料（如硒化鋅、硫化鋅、硅、鍺等晶體）、巖樣、礦樣、復合材料、有機高分子材料等材料樣品的自動研磨拋
UNIPOL-1502AT自動精密研磨拋光機適用于各種材料的研磨與拋光，本機設置了?381mm的研磨拋光盤和三個加工工位，可用于研磨拋光≤?110mm的平面。UNIPOL-1502自動精密研磨拋光機若
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VTC-1HD-Z F2高真空磁控濺射蒸發鍍膜儀是多功能高真空鍍膜設備，含單靶磁控濺射儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜
UNIPOL-1210S自動壓力研磨拋光系統主要用于材料研究領域。適用于金屬、陶瓷、玻璃、巖樣、礦樣等材料樣品的自動研磨拋光，也可用于工廠的小規模生產。該機具有加工精度高，性能穩定可靠，操作簡單，適用
營業執照已審核
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滬公網安備 31011502008050號