Park NX20 Lite用于晶圓測量和分析的高性價比 AFM 系統
Park NX15 功能強大的原子力顯微鏡提高您的生產力
Park NX20 失效分析的理想選擇
Park NX20 300mm 用于300毫米晶圓測量和分析的自動化納米計量工具
專為大型納米平板顯示器測量而設計的自動化原子力顯微鏡（AFM）系統
概覽
功能強大——助力研究如虎添翼
Park NX15不僅非常適合共享實驗室里的研究人員處理各種樣品、進行多變量實驗，也同樣適合故障分析工程師處理晶圓的系統性工作。合理的價格和強大的集成功能使其快速成為業內的明星AFM.
便捷的樣品測量（包含多樣品掃描）
一次可對多個樣品自動成像
設計的多樣本卡盤，一次至多可裝載9個單獨樣品（可選）
全電動XY樣品臺行程可達 150 mm x 150 mm
通過消除掃描器串擾進行精 準的XY掃描
獨立閉環XY和Z柔性掃描器
正交XY掃描
無需軟件處理即可保留真實可信的樣品表面形貌信息
真正非接觸模式實現探針使用壽命、成像分辨率和樣品的有效保護
快速的Z伺服速度，實現真正的非接觸模式
針尖磨損微小化，可實現長時間的高質量和高分辨率成像
多種模式和選項
全面性的測量模式和表征方法
可實現可選配件和升級擴展功能
用于故障分析(FA)的精密電學測量
技術信息
便捷的樣品測量（包含多樣品掃描）
Park NX15 多樣品掃描系統
一次可對多個樣品自動成像
多樣品卡盤，一次可裝載9個單獨樣品（可選）
全電動XY樣品臺行程可達 150 mm x 150 mm
使用電動樣品臺，多樣品掃描可實現多區域同步成像和掃描自動化。
以下是它的工作原理：
1.用戶可自定義多個掃描位置
2. 去開始掃描位置進行成像
3. 抬針
4. 將機動平臺移動到下一個用戶定義的坐標
5. 下針
6. 重復掃描
通過輸入樣品臺坐標，利用兩個參考點消除樣品偏移，即可精 準定位多個掃描位置。該自動化功能大大簡化了繁瑣的手動操作流程，提高了工作效率。
無掃描器弓形彎曲的平直正交XY軸掃描
Park的串擾消除技術不僅修正了掃描器弓形彎曲的缺點，還能在不同掃描位置、掃描速率和掃描尺寸條件下進行平直正交XY軸掃描。即使是平坦的樣品也不會出現如光學平面、各種偏移掃描等背景曲率。因此Park能不懼艱難挑戰，為您在研究中提供高精度的納米測量。
Park的優勢在于匠心獨運的掃描器架構。基于獨立XY掃描器和Z掃描器設計的撓曲結構，能讓您輕松獲得的較高精度納米級分辨率數據。
行業領跑的低噪聲 Z 探測器
Park AFM 配備了該領域有效的低噪聲Z探測器，噪音水平低于0.02 nm,因而達到了樣品形貌成像精 準，沒有邊沿過沖無需校準的高效率。Park NX系列不僅為您提供高精 準的數據，更為您大大節省了時間成本。
利用低噪聲Z探測器信號進行形貌成像
Z探測器噪音水平低于0.02 nm
沒有邊沿過沖，無需額外校準
只需在工廠校準一次
樣品：1.2 μm 標準臺階高度
(9 μm x 1 μm, 2048 pixels x 128 lines)
Non-Contact? 模式可延長探針壽命、保護樣品并精 準測量
True Non-Contact? 模式是Park原子力顯微鏡系統專有的掃描模式。該模式通過在掃描過程中防止針尖和樣品損壞，產生高清的分辨率和準確的數據。
接觸模式下，針尖在掃描過程中持續接觸樣品；輕敲模式下，針尖周期性地接觸樣品；而在非接觸模式下針尖不會接觸樣品。因此，使用非接觸模式具有幾大優勢。由于針尖銳度得以保持，所以在整個成像過程中會以高分辨率進行掃描。非接觸模式下由于針尖不會直接接觸樣品表面，從而避免了損壞軟樣品。
減少針尖磨損 → 長時間高分辨率掃描
無損式探針- 樣品接觸 → 樣品受損微小化
可滿足各種條件下，對各種樣品的非接觸式掃描
此外，非接觸模式可以感知探針與樣品原子之間的作用力，甚至可以檢測到探針接近樣品時產生的橫向力。因此，在非接觸模式下使用探針可以有效避免撞到樣品表面時突然出現的高層結構。而接觸模式和輕敲模式只能進行探針底端檢測，很容易受到這種撞擊傷害。
原子力顯微鏡模式
具有擴展性的 AFM 解決方案
行業領跑——支持廣泛的SPM 模式和選項
如今，研究人員需要在不同的測量條件和樣品環境下表征廣泛的物理特性。 Park Systems能為您提供廣泛的 SPM 模式、多樣的 AFM 選項以及業界領跑的選項兼容性和可升級性，支持多種樣品表征。
Park NX15 擁有廣泛的SPM模式
形貌成像
非接觸
接觸
輕敲
介電/壓電特性
壓電力顯微鏡 (PFM)
高壓PFM
壓電響應光譜
磁學特性
磁力顯微鏡 (MFM)
電學特性
導電原子力顯微鏡 (C-AFM)
電流-電壓分光鏡
開爾文探針力顯微鏡 (KPFM)
高壓KPFM
掃描電容顯微鏡 (SCM)
掃描擴展電阻顯微鏡 (SSRM)
掃描隧道顯微鏡 (STM)
光電流映射 (PCM)
靜電力顯微鏡 (EFM)
力學特性
力調制顯微鏡 (FMM)
納米壓痕
納米刻蝕
高壓納米刻蝕
納米操縱
橫向力顯微鏡(LFM)
力距 (F/d) 光譜
力容積成像
化學特性
具有功能化探針的化學力顯微鏡
納米壓痕
電化學顯微鏡 (EC-AFM)
技術參數
Park NX15 技術參數
Flexure guided high-force scanner
Scan range: 15 μm (optional 30 μm)
Single module flexure XY-scanner with closed-loop control
Scan range: 100 μm × 100 μm
Motorized Z stage travel range: 25.5mm,
optional precision encoder for better stage repeatability
Motorized XY stage travel range:
150 mm,
optional precision encoders for better XY stage repeatability
Sample size: Up to 150 mm wafer sample
AFM system control and data acquisition software
Auto mode for quick setup and easy imaging
Manual mode for advanced use and finer scan control
AFM data analysis software
Stand-alone design—can install and analyze data away from AFM
Capable of producing 3D renders of acquired data
報價：面議
已咨詢631次大樣品原子力顯微鏡
報價：面議
已咨詢423次Park原子力顯微鏡
報價：面議
已咨詢2516次
報價：面議
已咨詢2146次
報價：面議
已咨詢219次陣列式壓力傳感系統
報價：面議
已咨詢67次原子力顯微鏡
報價：面議
已咨詢8572次原子力顯微鏡
報價：面議
已咨詢6765次原子力顯微鏡
Park NX-Hivac通過為失效分析工程師提供高真空環境來提高測量敏感度以及原子力顯微鏡測量的可重復性。與一般環境或干燥N2條件相比，高真空測量具有準確度好、可重復性好及針尖和樣本損傷低等優點。
高精度探針針尖變量的亞埃米級表面粗糙度測量，晶圓的表面粗糙度對于確定半導體器件的性能是至關重要的，對于先進的元件制造商，芯片制造商和晶圓供應商都要求對晶圓商超平坦表面進行更精確的粗糙度控制。
對于工程師來說，識別介質/平面基底的納米級缺陷的任務是一個非常耗時的過程，Park NX-HDM原子力顯微鏡系統可以自動缺陷識別，通過與各種光學儀器的聯用可以提高缺陷檢測效率。
Park Systems推出NX-3DM全自動原子力顯微鏡系統，專為垂懸輪廓、高分辨率側壁成像和臨界角的測量而設計。
CSI是一家法國科學設備制造商，擁有專業的AFM設計概念，以及為現有的AFM提供設計選項。它避免了激光對準需要預先定位針尖的系統，針尖/樣品的頂部和側視圖，結合垂直的馬達控制系統，使預先趨近更加容易。
EM-AFM可在SEM中同時提供原子力顯微鏡成像和納米機械測量。它綜合了這兩種技術的優點，可高速獲得高分辨率的三維圖像，并且在微納米和亞納米尺度上實時觀察納米級力的相互作用，與常規SEM/FIB兼容，
營業執照已審核
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