電鏡原位原子力 EM-AFM 電鏡原位原子力顯微鏡
電學原子力 Nano observer 電學原子力顯微鏡
可旋轉顯微鏡 NX-3DM 可旋轉全自動原子力顯微鏡
全自動顯微鏡 NX-HDM 全自動缺陷檢測原子力顯微鏡
原子力顯微鏡 NX-Wafer 全自動晶圓檢測原子力顯微鏡
Park NX-Hivac通過為失效分析工程師提供高真空環境來提高測量敏感度以及原子力顯微鏡測量的可重復性。與一般環境或干燥N2條件相比，高真空測量具有準確度好、可重復性好及針尖和樣本損傷低等優點，因此用戶可測量各種故障分析應用中許多信號響應，例如掃描擴散電阻顯微術(SSRM)的摻雜物濃度。Park NX-Hivac使得真空環境中高精確度和高分辨率測量的材料科學研究遠離氧氣與其它藥劑的影響，在高真空條件下執行掃描擴散電阻顯微鏡測量可減少所需的針尖-樣本相互作用力，從而降低對樣本和針尖的損傷。
如此可延長各針尖的使用壽命，使掃描更加低成本和便捷，并通過提高空間分辨率和信噪比得到更為精確的結果。
基本技術參數
掃描儀 | 光學顯微鏡 | 樣品臺 |
XY掃描儀：50 μm x 50 μm （100 μm x 100 μm可選） | 物鏡：10x 5M pixel CCD | XY平臺行程：22 mm x 22mm 樣品大小：50mm x 50mm，厚度20 mm |
物理信息 | 軟件 | 高真空 |
真空室：300mm x 420mm x 320mm | SmartScan：Park AFM操作軟件 XEI: AFM數據分析軟件 Hiva Manager:自動真空控制軟件 | 真空等級：小于 1 x 10-5 torr 泵速：5 min內達到10-5 torr |
主要功能
用于失效分析應用的高真空掃描
Park NX-Hivac允許故障分析工程師通過高真空SSRM提高的靈敏和分辨率。高真空掃描能提供比大氣或干燥的N2條件下更高的精度，更好的可重復性，還能減少針尖和樣品損傷 ，用戶從而可以在失效分析應用中測量更廣闊范圍的涂料濃度和信號強度，
自動化特征
用戶所需的輸入操作簡單，用戶可以更快地掃描從而提高實驗室的實驗成果。
應用
在二維金屬材料電性能方面的研究
C-AFM in Air vs High Vacuum MoS2
在空氣和真空下MoS2 的AFM 圖
相關文獻
Jonathan Ludwig et al，”Effects of buried grain boundaries in multilayer MoS2”Journal：Nanotechnology, Volume 30, Number 28.
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高精度探針針尖變量的亞埃米級表面粗糙度測量，晶圓的表面粗糙度對于確定半導體器件的性能是至關重要的，對于先進的元件制造商，芯片制造商和晶圓供應商都要求對晶圓商超平坦表面進行更精確的粗糙度控制。
對于工程師來說，識別介質/平面基底的納米級缺陷的任務是一個非常耗時的過程，Park NX-HDM原子力顯微鏡系統可以自動缺陷識別，通過與各種光學儀器的聯用可以提高缺陷檢測效率。
Park Systems推出NX-3DM全自動原子力顯微鏡系統，專為垂懸輪廓、高分辨率側壁成像和臨界角的測量而設計。
CSI是一家法國科學設備制造商，擁有專業的AFM設計概念，以及為現有的AFM提供設計選項。它避免了激光對準需要預先定位針尖的系統，針尖/樣品的頂部和側視圖，結合垂直的馬達控制系統，使預先趨近更加容易。
EM-AFM可在SEM中同時提供原子力顯微鏡成像和納米機械測量。它綜合了這兩種技術的優點，可高速獲得高分辨率的三維圖像，并且在微納米和亞納米尺度上實時觀察納米級力的相互作用，與常規SEM/FIB兼容，
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