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VTC-600G高真空磁控濺射儀

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產品特點

VTC-600G高真空磁控濺射儀是新自主研制開發的鍍膜設備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。

詳細介紹

產品簡介

VTC-600G高真空磁控濺射儀是新自主研制開發的鍍膜設備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600G高真空磁控濺射儀可選配多個靶槍,配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜,配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜。與同類設備相比,其不僅應用廣泛,且具有體積小便于操作的優點,是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備,特別適用于實驗室研究固態電解質及OLED等。

主要特點
  • 可選配多個靶槍,配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜,配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜(靶槍可以根據客戶需要任意調換)。

  • 可制備多種薄膜,應用廣泛。

  • 體積小,操作簡便。

  • 整機模塊化設計,真空腔室、真空泵組、控制電源分體式設計,可根據用戶實際需要調整。

  • 可根據用戶實際需要選擇電源,可以一個電源控制多個靶槍,也可多個電源單一控制靶槍。

技術參數
產品名稱VTC-600G高真空磁控濺射儀
產品型號VTC-600G
主要參數1、結構:臺式前開門結構,后置抽氣系統。 
2、極限真空:6.0X10-5Pa。 
3、漏率:1h≤0.5Pa。 
4、抽氣時間大氣至5.0X10-3約20分鐘。 
5、真空泵組:機械泵+分子泵。 
6、樣品臺:φ140、室溫-500℃、精度±1℃ (可根據實際需要提升溫度) 自轉5rpm-20rpm內可調。 可根據客戶需求選配加裝偏壓功能, 以實現更高質量的鍍膜。
7、加氣系統:質量流量計2路。 (氬氣/氮氣各一路) 
8、靶頭與樣品臺中軸線夾角為34° 
9、靶頭數量:3個(互成120°)。
10、 靶槍冷卻方式:水冷 
11、靶材尺寸:φ2″,厚度0.1-5mm (因靶材材質不同厚度有所不同)
產品規格

12、產品規格:
·整機尺寸:700mm×852mm×1529mm;

可選配件
序號名稱功能類別圖片鏈接
1樣品臺擋板(可選)


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