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VTC-600G高真空磁控濺射儀
- 品牌:沈陽科晶
- 型號: VTC-600G
- 產地:遼寧 沈陽
- 供應商報價:面議
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沈陽科晶自動化設備有限公司
更新時間:2025-07-17 08:05:21
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銷售范圍售全國
入駐年限第10年
營業執照已審核
- 同類產品磁控濺射鍍膜(19件)
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產品特點
- VTC-600G高真空磁控濺射儀是新自主研制開發的鍍膜設備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。
詳細介紹
- 產品簡介
VTC-600G高真空磁控濺射儀是新自主研制開發的鍍膜設備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600G高真空磁控濺射儀可選配多個靶槍,配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜,配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜。與同類設備相比,其不僅應用廣泛,且具有體積小便于操作的優點,是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備,特別適用于實驗室研究固態電解質及OLED等。
主要特點可選配多個靶槍,配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜,配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜(靶槍可以根據客戶需要任意調換)。
可制備多種薄膜,應用廣泛。
體積小,操作簡便。
整機模塊化設計,真空腔室、真空泵組、控制電源分體式設計,可根據用戶實際需要調整。
可根據用戶實際需要選擇電源,可以一個電源控制多個靶槍,也可多個電源單一控制靶槍。
技術參數產品名稱 VTC-600G高真空磁控濺射儀 產品型號 VTC-600G 主要參數 1、結構:臺式前開門結構,后置抽氣系統。
2、極限真空:6.0X10-5Pa。
3、漏率:1h≤0.5Pa。
4、抽氣時間大氣至5.0X10-3約20分鐘。
5、真空泵組:機械泵+分子泵。
6、樣品臺:φ140、室溫-500℃、精度±1℃ (可根據實際需要提升溫度) 自轉5rpm-20rpm內可調。 可根據客戶需求選配加裝偏壓功能, 以實現更高質量的鍍膜。
7、加氣系統:質量流量計2路。 (氬氣/氮氣各一路)
8、靶頭與樣品臺中軸線夾角為34°
9、靶頭數量:3個(互成120°)。
10、 靶槍冷卻方式:水冷
11、靶材尺寸:φ2″,厚度0.1-5mm (因靶材材質不同厚度有所不同)產品規格 12、產品規格:
·整機尺寸:700mm×852mm×1529mm;可選配件序號 名稱 功能類別 圖片鏈接 1 樣品臺擋板 (可選)