Syskey  離子束刻蝕機 IBE

離子束蝕刻（IBE）是一種先進的蝕刻技術，利用離子源去除來自基材表面的材料具有卓 越的均勻性和精度。國際教育局可以
適用于金屬、氧化物、半導體、有機物等多種材料化合物。這種蝕刻方法涉及使用帶電粒子的高能束，通常是氬離子，用于物理去除樣品表面的材料。

配置和優勢：

? 可實現高蝕刻速率和低速率控制
? 使用均勻的平行光束進行高度均勻的加工
? 靈活配置，適用于高級研究應用
? 靈活的晶圓處理能力 – 開放負載、單晶圓負載鎖定或盒式盒式磁帶機器人搬運機
? 產生受控各向異性蝕刻
? 由于蝕刻梁的角度可變，可以控制角度輪廓相對于樣品表面
? 負載鎖定。（可選）
? 終點檢測系統。（可選）