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Helios 5 DualBeam 雙束掃描電鏡
- 品牌:賽默飛世爾
- 型號: Helios 5 DualBeam
- 產地:歐洲 捷克
- 供應商報價:面議
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深圳市科時達電子科技有限公司
更新時間:2025-06-04 06:48:57
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銷售范圍售全國
入駐年限第4年
營業執照已審核
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產品特點
- Helios 5 DualBeam 雙束掃描電鏡
詳細介紹
Helios 5 DualBeam
【產品描述】
【技術參數】
半導體行業技術參數:
Helios 5 CX
Helios 5 HP
Helios 5 UX
Helios 5 HX
Helios 5 FX
樣品制備與 XHR 掃描電鏡成像
最終樣品制備 (TEM薄片,APT)
STEM 亞納米成像與樣品制備
SEM
著陸電壓
20 eV~30 keV
20 eV~30 keV
分辨率
0.6 nm@15 keV
1.0 nm@1 keV
0.6 nm@2 keV
0.7 nm@1 keV
1.0 nm@500 eV
STEM
分辨率@30 keV
0.7 nm
0.6 nm
0.3 nm
FIB制備過程
最大材料去除束流
65 nA
100 nA
65 nA
最終最優拋光電壓
2 kV
500 V
TEM樣品制備
樣品厚度
50 nm
15 nm
7 nm
自動化
否
是
是
樣品處理
行程
110×110×65 mm
110×110×65 mm
150×150×10 mm
100×100×20 mm
100×100×20 mm+5軸(S)TEM Compustage
快速進樣器
手動
自動
手動
自動
自動+自動插入/提取STEM 樣品桿
材料科學行業技術參數:
Helios 5 CX
Helios 5 UX
離子光學
具有卓越的大束流性能的Tomahawk HT 離子鏡筒
具有卓越的大束流和低電壓性能的Phoenix 離子鏡筒
離子束電流范圍
1 pA – 100 nA
1 pA – 65 nA
加速電圧
500 V – 30 kV
500 V – 30 kV
最大水平視場寬度
在束重合點處為0.9 mm
在束重合處點為0.7 mm
離子源壽命
1,000 小時
1,000 小時
兩級差分抽吸
兩級差分抽吸
飛行時間校準
飛行時間校準
15孔光闌
15孔光闌
電子光學
Elstar超高分辨率場發射鏡筒
Elstar超高分辨率場發射鏡筒
磁浸沒物鏡
磁浸沒物鏡
高穩定性肖特基場發射槍提供穩定的高分辨率分析電流
高穩定性肖特基場發射槍提供穩定的高分辨率分析電流
電子束分辨率
最佳工作距離下
0.6 nm @ 30 kV STEM
0.6 nm @ 30 kV STEM
0.6 nm @ 15 kV
0.7 nm @ 1 kV
1.0 nm @ 1 kV
1.0 nm @ 500 V (ICD)
0.9 nm @ 1 kV 減速模式*
在束流重合點
0.6 nm @ 15 kV
0.6 nm @ 15 kV
1.5 nm @ 1 kV 減速模式* 及 DBS*
1.2 nm @ 1 kV
電子束參數
電子束流范圍
0.8 pA ~ 176 nA
0.8 pA ~ 100 nA
加速電壓范圍
200 V ~ 30 kV
350 V ~ 30 kV
著陸電壓
20 eV ~ 30 keV
20 eV ~ 30 keV
最大水平視場寬度
2.3 mm @ 4 mm WD
2.3 mm @ 4 mm WD
探測器
Elstar 鏡筒內 SE/BSE 探測器 (TLD-SE, TLD-BSE)
Elstar 鏡筒內 SE/BSE 探測器 (ICD)*
Elstar 鏡筒內 BSE 探測器 (MD)*
樣品室內 Everhart-Thornley SE 探測器 (ETD)
紅外相機
高性能離子轉換和電子探測器 (SE)*
樣品室內 Nav-Cam 導航相機*
可伸縮式低電壓、高襯度、分割式固態背散射探測器 (DBS)*
可伸縮STEM 3+ 探測器*
電子束流測量
樣品臺和樣品
樣品臺
高度靈活的五軸電動樣品臺
壓電陶瓷驅動 XYR 軸的高精度五軸電動工作臺
XY
110 mm
150 mm
Z
65 mm
10 mm
R
360° (連續)
360° (連續)
傾斜
-15° ~ +90°
-10° ~ +60°
最大樣品高度
與優中心點間隔 85 mm
與優中心點間隔 55 mm
最大樣品質量
樣品臺任意位置 500 g
樣品臺任意位置 500 g
0° 傾斜時最大 5 kg
最大樣品尺寸
直徑 110 mm可沿樣品臺旋轉時
直徑 150 mm可沿樣品臺旋轉時
優中心旋轉和傾斜
優中心旋轉和傾斜
【特點與應用】
?更易于使用:
Helios 5 對所有經驗水平用戶而言都是最容易使用的 DualBeam 系統。操作人員培訓可以從幾個月縮短到幾天,其系統設計可幫助所有操作人員在各種高級應用程序上實現一致、可重復的結果。
?提高了生產率:
Helios 5 和 AutoTEM 5 軟件的先進自動化功能,增強的可靠性和穩定性允許無人值守甚至夜間操作,顯著提高樣品制備通量。
?改善時間和結果:
Helios 5 DualBeam 引入全新精細圖像調節功能 FLASH (閃調)技術。借助 FLASH 技術,您只需在用戶界面中進行簡單的鼠標操作,系統即可“實時”進行消像散、透鏡居中和圖像聚焦。自動調整可以顯著提高通量、數據質量并簡化高質量圖像的采集。平均而言,FLASH 技術可以使獲得優化圖像所需的時間最多縮短 10 倍。
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