DB550是一款優(yōu)雅全能的納米分析和制樣工具，低電壓高分辨的電子鏡筒，保證納米分析能力。“承影”離子鏡筒提供了高穩(wěn)定、高質(zhì)量的離子束流，保證納米加工能力。集成式的納米機(jī)械手、氣體注入器，一體化設(shè)計(jì)的控制軟件，為您打造全能納米分析和加工中心。
壓高分辨電子鏡筒
“承影”離子鏡筒
豐富的擴(kuò)展能力
集成式氣體注入器
集成式納米機(jī)械手
快速換樣倉(cāng)（最大8寸）
產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)
1、高壓隧道技術(shù)和無漏磁物鏡的電子鏡筒，高分辨率成像，兼容磁性樣品
2、“承影”離子鏡筒，高穩(wěn)定、高質(zhì)量的離子束流，用于高質(zhì)量納米加工和TEM制樣
3、樣品倉(cāng)內(nèi)壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)的機(jī)械手，集成式控制方式，操作精準(zhǔn)到位
4、自主可控，擴(kuò)展性強(qiáng)，集成化設(shè)計(jì)的離子源更換時(shí)間快，極 致的售后服務(wù)
技術(shù)介紹
"承影"離子鏡筒
技術(shù)特點(diǎn)
分辨率：3 nm@30 kV
探針電流：1 pA~65 nA
加速電壓范圍：500 V~30 kV
使用壽命：≥1000小時(shí)
長(zhǎng)時(shí)間穩(wěn)定性：72小時(shí)不間斷工作
納米機(jī)械手
技術(shù)特點(diǎn)
倉(cāng)內(nèi)安裝方式
全壓電驅(qū)動(dòng)
編碼精度≤10nm
最大移動(dòng)速度2mm/s
集成式控制方式
氣體注入器
單氣體注入
多種氣源可選
伸縮距離≥35 mm
重復(fù)定位精度≤10 um
加熱溫度控制精度≤0.1℃
加熱溫度范圍：室溫~90℃
集成式控制方式
應(yīng)用案例
28nm Cu制程芯片 Top view
Al制程截面
PCB 截面大尺寸切割
SiC 摻雜
納米機(jī)械手提取樣品
三元材料截面
石墨顆粒截面
太陽(yáng)能光伏銀線截面
鈦金周薄片中的增強(qiáng)相
陶瓷材料截面
鐵素體馬氏體鋼(微磁)DB500 電子像
鐵素體馬氏體鋼原子像(STEM-HAADF)
透射制樣
原位加熱EBSD樣品制備
原位拉力樣品制備
原位透射拉力樣品制備
原位壓力樣品制備
質(zhì)子交換膜截面
產(chǎn)品參數(shù)
| 電子束系統(tǒng) | 電子槍類型 | 高亮度肖特基場(chǎng)發(fā)射電子槍 |
| 分辨率 | 0.9 nm@15 kV | |
| 加速電壓 | 20 V ~ 30 kV | |
| 離子束系統(tǒng) | 離子源類型 | 液態(tài)鎵離子源 |
| 分辨率 | 3 nm@30 kV | |
| 加速電壓 | 500 V ~ 30 kV | |
| 樣品室 | 真空系統(tǒng) | 全自動(dòng)控制，無油真空系統(tǒng) |
| 攝像頭 | 三攝像頭 | |
| （光學(xué)導(dǎo)航+樣品倉(cāng)內(nèi)監(jiān)控x2） | ||
| 樣品臺(tái)類型 | 五軸機(jī)械優(yōu)中心樣品臺(tái) | |
| 樣品臺(tái)行程 | X=110 mm，Y=110 mm，Z=65 mm | |
| T: -10°~+70°，R: 360° | ||
| 探測(cè)器和擴(kuò)展 | 標(biāo)配 | 鏡筒內(nèi)電子探測(cè)器(Inlens) |
| 旁側(cè)二次電子探測(cè)器（ETD） | ||
| 選配 | 插入式背散射電子探測(cè)器（BSED） | |
| 插入式掃描透射探測(cè)器（STEM） | ||
| 能譜儀（EDS） | ||
| 背散射衍射（EBSD） | ||
| 納米機(jī)械手 | ||
| 氣體注入器 | ||
| 等離子清洗 | ||
| 樣品交換倉(cāng) | ||
| 軌跡球&旋鈕控制板 | ||
| 軟件 | 語言 | 中文 |
| 操作系統(tǒng) | Windows | |
| 導(dǎo)航 | 光學(xué)導(dǎo)航、手勢(shì)快捷導(dǎo)航 | |
| 自動(dòng)功能 | 自動(dòng)亮度對(duì)比度、自動(dòng)聚焦、自動(dòng)像散 |
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