二次電子像分辨率 0.8 nm（加速電壓 15 kV），1.0 nm（加速電壓 1 kV ）

分析時(shí) 3.0 nm (加速電壓 15 kV, WD 8 mm, 探針電流 5 nA ) 

倍率 Direct magnification:  x25 to 1,000,000（120 x 90 mm）

Display magnification:  x75 to 3,000,000（1,280 x 960 pixels） 

加速電壓 0.1 ～ 30 kV 

探針電流 數(shù) pA ～ 200 nA 

電子槍 浸沒式肖特基場(chǎng)發(fā)射電子槍 

透鏡系統(tǒng) 聚光鏡（CL）、  最 佳光闌角控制鏡（ACL）、  半浸沒式物鏡（OL） 

樣品臺(tái) 全對(duì)中測(cè)角樣品臺(tái)、5軸馬達(dá)驅(qū)動(dòng) 

電子檢測(cè)器系列 高位檢測(cè)器、　r‐過濾器　內(nèi)置、  低位檢測(cè)器 

自動(dòng)功能 自動(dòng)聚焦、自動(dòng)消象散、自動(dòng)亮度/襯度調(diào)節(jié) 

圖像觀察用

液晶顯示器 屏幕尺寸 23英寸寬屏

 分辨率　1,920 × 1,080像素 

抽真空系統(tǒng) 電子槍室／中間室　SIP 離子泵

樣品室　TMP 分子泵 

蔡司場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡主要優(yōu)勢(shì)有：靈活的探測(cè)，4步工作流程，的分析性能

將的分析性能與場(chǎng)發(fā)射掃描技術(shù)相結(jié)合，利用成熟的 Gemini 電子光學(xué)元件。多種探測(cè)器可選：用于顆粒、表面或者納米結(jié)構(gòu)成像。Sigma 半自動(dòng)的4步工作流程節(jié)省大量的時(shí)間：設(shè)置成像與分析步驟，提效率。

Sigma 300 性價(jià)比高。Sigma 500 裝配有的背散射幾何探測(cè)器，可快速方便地實(shí)現(xiàn)基礎(chǔ)分析。任何時(shí)間，任何樣品均可獲得可重復(fù)的分析結(jié)果。

蔡司場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡是基于成熟的 Gemini 技術(shù)

Gemini 鏡頭的設(shè)計(jì)結(jié)合考慮了電場(chǎng)與磁場(chǎng)對(duì)光學(xué)性能的影響，并將場(chǎng)對(duì)樣品的影響降至更低。這使得即使對(duì)磁性樣品成像也能獲得出色的效果。

Gemini in-lens 的探測(cè)確保了信號(hào)探測(cè)的效率，通過二次檢測(cè)(SE)和背散射(BSE)元件同時(shí)減少成像時(shí)間。

Gemini 電子束加速器技術(shù)確保了小的探測(cè)器尺寸和高的信噪比。

本文有蔡司顯微鏡廠家小編Pancy整理，更多關(guān)于蔡司場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡相關(guān)的咨詢

       簡介： 

       電子束曝光技術(shù)（Electron Beam Lithography）指使用電子束在表面上制造圖樣的工藝，是光刻技術(shù)的延伸應(yīng)用。 光刻技術(shù)的精度受到光子在波長尺度上的散射影響。使用的光波長越短，光刻能夠達(dá)到的精度越高。根據(jù)德布羅意的物質(zhì)波理論， 電子是一種波長極短的波。這樣，電子束曝光的精度可以達(dá)到納米量級(jí)，從而為制作納米線提供了很有用的工具。電子束曝光技術(shù)在半導(dǎo)體工業(yè)中被廣泛使用于研究下一代超大規(guī)模集成電路。

圖形發(fā)生器及PC機(jī)（中科院電工所 DY-2000A）

       電子束曝光的設(shè)備實(shí)現(xiàn)電子束曝光技術(shù)有專門的儀器—電子束曝光機(jī)。也可以利用掃描電子顯微鏡作為平臺(tái)，配置圖形發(fā)生器軟/ 硬件和工作站，按照提前設(shè)計(jì)好的圖形，通過控制掃描電子顯微鏡的掃描線圈，使電子束按照一定順序在光刻膠上完成曝光動(dòng)作。

       日本電子（JEOL）JSM系列熱場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡在EBL技術(shù)應(yīng)用中的優(yōu)勢(shì)： 

       1.浸沒式肖特基場(chǎng)發(fā)射電子槍，壽命長，Z大束流可達(dá)500nA。 

       2.束流穩(wěn)定度高。 

       3.ACL（Z優(yōu)角孔徑控制鏡），可在大束流下已經(jīng)保持小電子束斑直徑。 這三者結(jié)合，在保證刻蝕精度和刻蝕尺度的情況下，實(shí)現(xiàn)了GX率。

掃描電子顯微鏡用液氮嗎：探索其在電子顯微鏡應(yīng)用中的角色

掃描電子顯微鏡（SEM）作為一種高精度的顯微分析工具，廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、生命科學(xué)、半導(dǎo)體行業(yè)等領(lǐng)域。在使用掃描電子顯微鏡時(shí)，液氮作為冷卻介質(zhì)的使用，引發(fā)了不少科研人員和工程技術(shù)人員的關(guān)注。掃描電子顯微鏡是否需要液氮？液氮在其操作中扮演了什么樣的角色？本文將深入探討液氮在掃描電子顯微鏡中的應(yīng)用以及其對(duì)顯微鏡性能的影響。

1. 掃描電子顯微鏡的基本原理與應(yīng)用

掃描電子顯微鏡是一種利用電子束掃描樣品表面并通過探測(cè)二次電子或反射電子來獲得樣品表面形貌和組成信息的顯微技術(shù)。與光學(xué)顯微鏡相比，SEM能夠提供更高的分辨率，能夠觀察到納米級(jí)別的結(jié)構(gòu)。其廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、納米技術(shù)、生命科學(xué)、環(huán)境監(jiān)測(cè)等領(lǐng)域，是研究微觀世界不可或缺的工具。

2. 液氮在掃描電子顯微鏡中的作用

液氮在掃描電子顯微鏡中的應(yīng)用主要體現(xiàn)在冷卻系統(tǒng)的使用。許多現(xiàn)代SEM設(shè)備都配備了低溫冷卻系統(tǒng)，利用液氮對(duì)樣品進(jìn)行冷卻，幫助提高成像的穩(wěn)定性和分辨率。液氮的低溫特性不僅可以減少樣品的熱膨脹問題，還能減少樣品表面在高真空環(huán)境下的熱損傷。因此，液氮在一些特定情況下，對(duì)于提高成像質(zhì)量及研究精度具有重要作用。

3. 掃描電子顯微鏡是否一定需要液氮？

盡管液氮在某些情況下對(duì)掃描電子顯微鏡的性能有積極影響，但并不是所有的掃描電子顯微鏡都需要液氮。許多現(xiàn)代掃描電子顯微鏡具有較強(qiáng)的真空系統(tǒng)和溫控系統(tǒng)，可以在常溫下進(jìn)行樣品分析，尤其是對(duì)于一些不易受熱影響的樣品，液氮的使用并非必需。因此，是否使用液氮取決于樣品的性質(zhì)以及實(shí)驗(yàn)的要求。

4. 液氮使用的必要性與優(yōu)勢(shì)

對(duì)于一些低溫敏感的樣品，液氮的使用顯得尤為重要。液氮能夠顯著降低樣品的溫度，避免高溫導(dǎo)致的表面變化或揮發(fā)性物質(zhì)的損失，尤其在觀察生物樣品、塑料材料、聚合物等時(shí)，其作用尤為突出。液氮的冷卻效果還可以減少樣品表面由于電子束照射產(chǎn)生的熱損傷，從而提高成像的清晰度和對(duì)比度。

5. 液氮的使用注意事項(xiàng)

雖然液氮能夠提升掃描電子顯微鏡的成像效果，但在使用過程中也有一些注意事項(xiàng)。液氮的使用需要一定的安全措施，操作人員必須穿戴合適的防護(hù)設(shè)備，避免液氮與皮膚接觸。使用液氮時(shí)，需確保冷卻系統(tǒng)和真空系統(tǒng)的正常工作，以免因設(shè)備故障導(dǎo)致液氮使用效率低下。液氮的存儲(chǔ)和更換需要嚴(yán)格按照操作規(guī)范進(jìn)行，以保證其效果和安全性。

6. 結(jié)論

液氮在掃描電子顯微鏡中的使用，主要取決于實(shí)驗(yàn)的需要和樣品的特性。對(duì)于那些溫度敏感或容易受熱損傷的樣品，液氮無疑能夠提高顯微鏡的成像質(zhì)量和分析精度。并非所有掃描電子顯微鏡都需要液氮作為冷卻介質(zhì)，其是否使用液氮應(yīng)根據(jù)具體實(shí)驗(yàn)要求來決定。在高精度的微觀分析中，液氮的正確使用能夠顯著提升研究成果的可靠性和準(zhǔn)確性。