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2025-01-21 09:32:30熱場發射掃描電鏡: 熱場發射掃描電鏡（FE-SEM）采用熱場發射電子槍，具有高亮度、高分辨率的特點。其能譜分辨率高，適用于各種固體樣品表面形貌的二次電子像、背散射電子像觀察，以及成分分析。FE-SEM廣泛應用于材料科學、生物醫學、地質學等領域，是研究材料微觀結構、表面形貌及元素分布的重要工具。

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熱場發射掃描電鏡問答

2023-08-15 09:10:37二手日本電子場發射掃描電鏡

2023-01-31 09:16:31場發射掃描電鏡基本構造: 一、電子源：也稱電子槍，產生連續不斷的穩定的電子流。普通掃描電鏡的電子槍由陰極（燈絲）、柵極和陽極組成。陰極采用能加熱的鎢絲，柵極圍在陰極周圍。被加熱了的鎢絲釋放出電子，并在陽極和陰極之間施加高壓，形成加速電場，從而使電子得到能量——高速飛向（在高真空鏡筒中）樣品。而場發射電子槍與普通鎢絲電子槍有所不同，陰極呈桿狀，在它的一端有個極鋒利的尖點（直徑小于100nm）,尖端的電場極強，電子直接依靠“隧道”穿過勢壘離開陰極，由加速電壓加速產生高速電子流飛向樣品。一般來說，掃描電鏡加速電壓通常為1——30kV。二、電子透鏡：將從電子槍發射出來的電子會聚成直徑最小為1——5nm電子束。　　三、掃描系統：使電子束作光柵掃描運動。

2023-01-31 09:05:09場發射掃描電鏡的性能特點: 一、場發射掃描電鏡分辨率高在場發射掃描電鏡中，人們最感興趣的信號是二次電子和背散射電子，這兩種信號的發射強度隨著樣品表面的形貌和化學成分而變化。二次電子產區限于入射電子束射人樣品的附近區域，從而獲得相當高的形貌分辨率，場發射掃描電鏡（FESEM)的圖像分辨率已經優于1nm，為納米和亞微米尺度的研究提供了極大的便利。這類電鏡屬于場發射掃描電鏡的高端產品。二、場發射掃描電鏡放大倍率寬放大倍率與分辨率密切相關，為了獲得高分辨率圖像，必須使用高放大倍率。光鏡放大倍率有限，最高到1500倍，透射電鏡放大倍率可以高達100萬倍、掃描電鏡放大倍率范圍可以從幾倍至幾十萬倍，三種顯微鏡的放大倍率成為一個系列。在掃描電鏡中，利用低倍觀察樣品的全貌，利用高倍研究樣品的微觀細節。操作時放大倍率連續可調，使用非常方便。低倍圖像有光鏡圖像的特點，掃描電鏡圖像比較直觀，容易解釋。高倍圖像可以與相應的透射電鏡圖像相比對。三、場發射掃描電鏡三維立體效果好光鏡和透射電鏡圖像景深小，只能觀察樣品某個平面，在深度方向上是模糊的。掃描電鏡圖像景深大，有的電鏡在電子光學系統上經過特殊設計，可以提供幾十毫米的景深范圍，即一張場發射掃描電鏡像不僅在X，Y兩個方向上的細節清晰，而且在圖像深度方向也很清楚。一幅兩維圖像，可以提供三維信息，使人們獲得更多的微觀信息量，適用于表面粗糙樣品的觀察，例如：金屬材料斷口、顆粒樣品的三維形態分析。利用掃描電鏡樣品臺的同軸心傾斜，可以獲得樣品的立體圖像對(Stereo pairs)，經合成后，變成立體圖像，使用圖像分析軟件可以準確測量深度方向的數據，這是掃描電鏡獨特的性能。

2022-02-09 11:34:47熱場發射掃描電子顯微鏡JSM-7610FPlus: 二次電子像分辨率 0.8 nm（加速電壓 15 kV），1.0 nm（加速電壓 1 kV ）分析時 3.0 nm (加速電壓 15 kV, WD 8 mm, 探針電流 5 nA ) 倍率 Direct magnification: x25 to 1,000,000（120 x 90 mm）Display magnification: x75 to 3,000,000（1,280 x 960 pixels）加速電壓 0.1 ～ 30 kV 探針電流數 pA ～ 200 nA 電子槍浸沒式肖特基場發射電子槍透鏡系統聚光鏡（CL）、最佳光闌角控制鏡（ACL）、半浸沒式物鏡（OL）樣品臺全對中測角樣品臺、5軸馬達驅動電子檢測器系列高位檢測器、　r‐過濾器　內置、低位檢測器自動功能自動聚焦、自動消象散、自動亮度/襯度調節圖像觀察用液晶顯示器屏幕尺寸 23英寸寬屏分辨率　1,920 × 1,080像素抽真空系統電子槍室／中間室　SIP 離子泵樣品室　TMP 分子泵

2025-05-16 11:15:25掃描電鏡怎么聚焦: 掃描電鏡怎么聚焦掃描電鏡（SEM，Scanning Electron Microscope）作為一種強大的分析工具，廣泛應用于材料科學、生物學、半導體等領域。其核心功能之一就是通過的聚焦技術，確保掃描電子束能夠高效且清晰地探測樣品表面特征，從而提供高分辨率的圖像和數據。要獲得高質量的掃描圖像，正確的聚焦至關重要。在這篇文章中，我們將詳細探討掃描電鏡的聚焦原理、聚焦過程中常見的問題以及如何通過合理調整參數確保佳成像效果。掃描電鏡的聚焦原理掃描電鏡的基本原理是利用電子束掃描樣品表面，并通過探測二次電子、背散射電子等信號來形成圖像。電鏡中的電子束必須聚焦在樣品的表面，以獲得清晰的圖像。聚焦過程通過調節電子束的大小、形狀和射向樣品的角度來實現，這需要精確的控制電子鏡頭系統。在SEM中，電子鏡頭通常由多個磁透鏡構成，每個透鏡通過調整電流來影響電子束的聚焦度。如何聚焦掃描電鏡調節光圈：光圈控制電子束的大小，它直接影響到束流的強度和成像的深度。當光圈調整不當時，電子束可能會擴散或聚焦不清，導致圖像模糊。通常，使用較小的光圈會提供更高的分辨率，但也會減小視場。調整物鏡透鏡：掃描電鏡通過物鏡透鏡進行精確聚焦。物鏡透鏡的調節主要是通過改變電流強度來實現。當樣品距離透鏡不合適時，圖像會顯得不清晰，因此調整物鏡透鏡的位置是確保清晰成像的關鍵。對焦的細節調節：在實際操作中，電鏡通常配備精細的對焦系統，允許用戶在微米甚至納米級別精確調節焦點。通過在圖像屏幕上觀察樣品表面，可以實時調整焦距，直到圖像清晰為止。常見的聚焦問題及其解決方法圖像模糊：這通常是由于對焦不準或電子束未能有效聚焦所致。解決方法是通過調整物鏡透鏡和光圈來重新聚焦，或者檢查電鏡的電子源是否穩定。樣品表面損傷：當聚焦過于集中時，電子束的能量過高可能會對樣品表面造成損害。為避免這種情況，應適當減小束流并適當調節對焦。焦點漂移：由于樣品或電鏡系統的溫度變化，焦點可能會發生漂移。為了克服這個問題，使用精細的對焦調節系統是非常重要的。如何確保佳聚焦效果在掃描電鏡的操作中，確保佳聚焦效果的關鍵是細致的調節和耐心的操作。除了基礎的物鏡調節和光圈控制外，操作員應當熟悉樣品的特性和掃描參數的影響，并能夠根據實際情況調整聚焦參數。保持電鏡系統的穩定性，定期校準設備，也能大大提高聚焦效果和圖像質量。掃描電鏡的聚焦是一個精細而復雜的過程，只有通過對電子束的準確控制與合理調節，才能確保獲得高質量的掃描圖像。掌握這一過程的技巧，能夠極大提升掃描電鏡在科學研究和工業應用中的精度和可靠性。

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