- 2025-01-21 09:31:43納米沉積印刷
- 納米沉積印刷是一種高精度、高效率的納米制造技術(shù)，通過將納米材料精確沉積到基材表面，形成具有特定結(jié)構(gòu)和功能的納米圖案。該技術(shù)結(jié)合了印刷技術(shù)的高通量與納米技術(shù)的高精度，適用于多種材料體系，廣泛應(yīng)用于電子、光學(xué)、生物傳感等領(lǐng)域。通過調(diào)控沉積參數(shù)，可實現(xiàn)對納米結(jié)構(gòu)尺寸、形狀和分布的精確控制。
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納米沉積印刷問答
- 2023-08-09 15:13:49原子層沉積ALD在納米材料方面的應(yīng)用
- 在微納集成器件進(jìn)一步微型化和集成化的發(fā)展趨勢下，現(xiàn)有器件特征尺寸已縮小至深亞微米和納米量級，以突破常規(guī)尺寸的極限實現(xiàn)超微型化和高功能密度化，成為近些年來的熱點研究領(lǐng)域。微納結(jié)構(gòu)器件不僅對功能薄膜本身的厚度和質(zhì)量要求嚴(yán)格，而且對功能薄膜/基底之間的界面質(zhì)量也十分敏感，尤其是隨著復(fù)雜高深寬比和多孔納米結(jié)構(gòu)在微納器件中的應(yīng)用，傳統(tǒng)的薄膜制備工藝越來越難以滿足其發(fā)展需求。ALD 技術(shù)沉積參數(shù)高度可控，可在各種尺寸的復(fù)雜三維微納結(jié)構(gòu)基底上，實現(xiàn)原子級精度的薄膜形成和生長，可制備出高均勻性、高精度、高保形的納米級薄膜。 微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)是尺寸在幾毫米乃至更小的高科技裝置，其內(nèi)部結(jié)構(gòu)一般在微米甚至納米量級，是一個獨(dú)立的智能系統(tǒng)，主要由傳感器、動作器(執(zhí)行器)和微能源三大部分組成，廣泛應(yīng)用于智能系統(tǒng)、消費(fèi)電子、可穿戴設(shè)備、智能家居、系統(tǒng)生物技術(shù)的合成生物學(xué)與微流控技術(shù)等領(lǐng)域。MEMS的構(gòu)造過程需要精細(xì)的微納加工技術(shù)，而工作過程伴隨著器件復(fù)雜的三維運(yùn)動，其中ALD技術(shù)均可發(fā)揮重要作用，ALD具有高致密性以及高縱寬比結(jié)構(gòu)均勻性，為MEMS機(jī)械耐磨損層、抗腐蝕層、介電層、憎水涂層、生物相容性涂層、刻蝕掩膜層等提供優(yōu)質(zhì)解決方案。 磁隧道結(jié)(MTJ)是由釘扎層、絕緣介質(zhì)層和自由由層的多層堆垛組成。在電場作用下，電子會隧穿絕緣層勢壘而垂直穿過器件，電子隧穿的程度依賴于釘扎層和自由層的相對磁化方向。隨著MTJ尺寸的不斷縮小以及芯片集成度的不斷提高，MTJ制備過程中的薄膜生長工藝偏差和刻蝕工藝偏差的存在，將會導(dǎo)致MTJ狀態(tài)切換變得不穩(wěn)定，并降低MTJ的讀取甚至?xí)?yán)重影響NV-FA電路中寫入功能和邏輯運(yùn)算結(jié)果輸出功能的正確性。ALD技術(shù)沉積參數(shù)高度可控，可通過精準(zhǔn)控制循環(huán)數(shù)來控制MTJ所需達(dá)到的各項參數(shù)，是適用于MTJ制造的最佳工藝方案之一。 生物物理學(xué)微流體器件可由單個納米孔和電極組成，也可以由許多納米孔陣列組成，可同時篩選、引導(dǎo)、定位、測量不同尺度的生物大分子，在生物物理學(xué)和生物技術(shù)領(lǐng)域中有著廣泛的應(yīng)用前景。生物納米孔逐漸受到了人們的普遍重視引起了人們的廣泛興趣，尤其是納米孔作為生物聚合物的檢測器件，為一些生物化學(xué)現(xiàn)象的基礎(chǔ)研究提供了研究的平臺。然而生物納米孔所固有的一些缺陷也很明顯，如生物相容性差及微孔的尺寸不可更改等；針對于此，ALD技術(shù)可通過表面修飾，改善納米孔的生物相容性，同時提升抗菌抑菌和促進(jìn)細(xì)胞合成。圖一: ALD Al2O3(僅~10 nm)可作為MEMS齒輪高硬度潤滑膜圖二：ALD應(yīng)用于低溫MEMS器件構(gòu)造圖三：MRAM磁隧道結(jié)（MTJ）存儲元件圖四：一種具有納米蛛網(wǎng)結(jié)構(gòu)的細(xì)菌纖維素膜
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- 2022-04-24 16:42:23納米多孔氧化鋁
- 本品為化學(xué)法合成的白色球形粉末，無重金屬、 無放射性元素。物理指標(biāo)①晶相 γ相②AI2O3含量 ≥99.9③ 介孔 0.38④ 原晶粒度 50-60納米化學(xué)指標(biāo)①本品用于噴墨打印紙的涂層， 為紙張?zhí)岣吖鉂?。②増加涂料的耐磨性，具有助流?提高上粉率、防結(jié)塊等特點應(yīng)用范圍①導(dǎo)熱硅膠②電子灌封膠③粉末涂料公眾號搜索粉體圈，聯(lián)系報價。聯(lián)系方式：400-869-9320轉(zhuǎn)8990更多信息進(jìn)入店鋪查看：https://www.360powder.com/shop.html?shop_id=1727
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- 2021-10-19 16:33:00凹版印刷圓盤剝離試驗機(jī)
- 凹版印刷圓盤剝離試驗機(jī)適用于凹版印刷工藝生產(chǎn)的塑料薄膜和玻璃紙裝潢等印刷品進(jìn)行印刷墨層結(jié)合牢度的測試試驗。亦用于真空鍍膜、表面 涂布、復(fù)合等相關(guān)工藝形成的面層之附著狀態(tài)的測試試驗。 圓盤剝離試驗機(jī)技術(shù)特征·微電腦控制，操作簡便·試驗結(jié)束自動報警提示圓盤剝離試驗機(jī)技術(shù)參數(shù)盤間壓力 100N剝離速度 0.8m/s 外形尺寸 290 mm×240 mm×390 mm(長寬高) 重 量 20kg 工作溫度 15℃-50℃ 相對濕度 高80%,無凝露 工作電源 220V 50Hz 參照標(biāo)準(zhǔn)GB 7707 圓盤剝離試驗機(jī)產(chǎn)品配置主機(jī)、電源線凹版印刷圓盤剝離試驗機(jī)
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- 2021-11-16 17:32:08Honle UV應(yīng)用案例-印刷
- Dr. H?nle AG 能為印刷過程提供多種多樣定制的 UV / LED / IR / 熱風(fēng)干燥機(jī)解決方案。作為系統(tǒng)供應(yīng)商，我們能夠提供包含了所有關(guān)鍵元件的高度集成產(chǎn)品并且專門提供整套解決方案，例如平張印刷和膠印、噴墨打印、柔印、移印或絲網(wǎng)印刷。印刷能力 目錄膠印中的 IR 熱風(fēng)干燥應(yīng)用實例：
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- 2023-04-20 09:37:22BeNano 180 Zeta Pro 納米粒度及 Zeta
- BeNano 180 Zeta Pro 納米粒度及 Zeta 電位分析儀BeNano 180 Zeta Pro 納米粒度及 Zeta 電位分析儀——背向 + 90°散射粒度 + Zeta 電位三合一型儀 器 簡 介BeNano 180 Zeta Pro 納米粒度及Zeta電位分析儀是BeNano 90+BeNano 180+BeNano Zeta 三合一的頂 級光學(xué)檢測系統(tǒng)。該系統(tǒng)中集成了背向 +90°動態(tài)光散射 DLS、電泳光散射 ELS和靜態(tài)光散射技術(shù) SLS，可以準(zhǔn)確的檢測顆粒的粒徑及粒徑分布，Zeta 電位，高分子和蛋白體系的分子量信息等參數(shù)，可廣泛的應(yīng)用于化學(xué)、化工、生物、制藥、食品、材料等領(lǐng)域的基礎(chǔ)研究和質(zhì)量分析與控制。指標(biāo)與性能Index＆performance粒徑測試原理：動態(tài)光散射技術(shù)粒徑范圍：0.3 nm – 15 μm樣品量：3 μL - 1 mL檢測角度：173°+90°+12°分析算法：Cumulants、通用模式、CONTIN、NNLSZeta電位測試原理：相位分析光散射技術(shù)檢測角度：12°Zeta范圍：無實際限制電泳遷移率范圍：> ±20 μ.cm/V.s電導(dǎo)率范圍：0 - 260 mS/cmZeta測試粒徑范圍：2 nm – 110 μm分子量測試分子量范圍：342 Da – 2 x 107 Da微流變測試頻率范圍：0.2 – 1.3 x 107 rad/s測試能力：均方位移、復(fù)數(shù)模量、彈性模量、粘性模量、蠕變?nèi)崃空扯群驼酃饴蕼y試粘度范圍：0.01 cp – 100 cp折光率范圍：1.3-1.6趨勢測試模式：時間和溫度系統(tǒng)參數(shù)溫控范圍：-15° C - 110° C+/- 0.1°C冷凝控制：干燥空氣或者氮?dú)鈽?biāo)準(zhǔn)激光光源：50 mW 高性能固體激光器， 671 nm相關(guān)器：最快25 ns采樣，最多 4000 通道，1011 動態(tài)線性范圍檢測器：APD （高性能雪崩光電二極管）光強(qiáng)控制：0.0001% - 100%，手動或自動軟件中文和英文符合21CFR Part 11原理圖儀器檢測檢測參數(shù)顆粒體系的光強(qiáng)、體積、面積和數(shù)量分布顆粒體系的 Zeta 電位及其分布分子量分布系數(shù) PD.I擴(kuò)散系數(shù) D流體力學(xué)直徑 D H顆粒間相互作用力因子 k D溶液粘度檢測技術(shù)動態(tài)光散射電泳光散射靜態(tài)光散射
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