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2025-01-21 09:30:33高真空濺射鍍膜儀: 高真空濺射鍍膜儀是一種先進(jìn)的科學(xué)儀器，主要用于在材料表面鍍制薄膜。它利用高真空環(huán)境，通過濺射的方式將靶材原子或分子沉積到基片表面，形成均勻、致密的薄膜。該儀器廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、電子工程、光學(xué)等領(lǐng)域，可用于制備導(dǎo)電膜、絕緣膜、光學(xué)膜等。其優(yōu)點(diǎn)是鍍膜質(zhì)量高、膜層與基片結(jié)合力強(qiáng)、可鍍材料廣泛。通過精確控制濺射參數(shù)，可實(shí)現(xiàn)薄膜厚度、成分和結(jié)構(gòu)的精確調(diào)控。

高真空濺射鍍膜儀相關(guān)內(nèi)容

高真空濺射鍍膜儀產(chǎn)品

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: Leica EM SCD500高真空濺射鍍膜儀; 國外歐洲; 面議; 廣州領(lǐng)拓儀器科技有限公司
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: 英國HHV桌上型濺射鍍膜儀BT150和BT300 英國HHV桌上型濺射鍍膜儀BT150和BT300，; 國外歐洲; 面議; 深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
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: 徠卡 EM ACE600 高真空鍍膜儀; 國外歐洲; ￥1000000; 上海愛儀通網(wǎng)絡(luò)科技有限公司
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: Nano-master 離子束刻蝕濺射鍍膜一體機(jī) NOC-4000; 國外美洲; 面議; 深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
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2023-07-29 15:21:33小型濺射儀問題解答: 小型濺射儀儀問儀答最近小伙伴對(duì)于濺射儀使用和技術(shù)參數(shù)問的問題比較多，今天總結(jié)一下濺射儀的一些常見的技術(shù)問題：1、膜厚檢測儀原理：膜厚監(jiān)測儀是采用石英晶體振蕩原理，利用頻率測量技術(shù)加上先進(jìn)的數(shù)學(xué)算法，進(jìn)行膜厚的在線鍍膜速率和實(shí)時(shí)厚度計(jì)算。主要應(yīng)用于MBE、OLED或金屬熱蒸發(fā)、磁控濺射設(shè)備的薄膜制備過程中，對(duì)膜層厚度及鍍膜速率進(jìn)行實(shí)時(shí)監(jiān)測。2、濺射儀是否可以鍍鎳：可以鍍鎳但是鎳是導(dǎo)磁金屬所以需要靶材盡量薄 0.5mm-1mm 太厚磁場無法穿透濺射速率很低。3、直流濺射鍍膜調(diào)節(jié)：1 靶材需要良好的導(dǎo)電性, 如果具備這個(gè)條件可以鍍 2 遇到容易氧化的金屬需要配備分子泵把本底真空抽到1E-3Pa 放氬氣維持真空到1Pa左右鍍膜的金屬接近本色。鄭科探小型濺射儀KT-Z1650PVD以上是小伙伴近期問的比較多的問題，如果還有什么問題歡迎咨詢。

2023-04-18 10:41:21小型濺射儀問題解答: 最近小伙伴對(duì)于濺射儀使用和技術(shù)參數(shù)問的問題比較多，今天總結(jié)一下濺射儀的一些常見的技術(shù)問題：1、膜厚檢測儀原理：膜厚監(jiān)測儀是采用石英晶體振蕩原理，利用頻率測量技術(shù)加上先進(jìn)的數(shù)學(xué)算法，進(jìn)行膜厚的在線鍍膜速率和實(shí)時(shí)厚度計(jì)算。主要應(yīng)用于MBE、OLED或金屬熱蒸發(fā)、磁控濺射設(shè)備的薄膜制備過程中，對(duì)膜層厚度及鍍膜速率進(jìn)行實(shí)時(shí)監(jiān)測。2、濺射儀是否可以鍍鎳：可以鍍鎳但是鎳是導(dǎo)磁金屬所以需要靶材盡量薄 0.5mm-1mm 太厚磁場無法穿透濺射速率很低。3、直流濺射鍍膜調(diào)節(jié)：1 靶材需要良好的導(dǎo)電性, 如果具備這個(gè)條件可以鍍 2 遇到容易氧化的金屬需要配備分子泵把本底真空抽到1E-3Pa 放氬氣維持真空到1Pa左右鍍膜的金屬接近本色。鄭科探小型濺射儀KT-Z1650PVD以上是小伙伴近期問的比較多的問題，如果還有什么問題歡迎咨詢。

2023-08-22 15:39:43小型金屬濺射鍍膜機(jī)優(yōu)點(diǎn): 鄭科探小型濺射儀功能優(yōu)勢1、樣品臺(tái)旋轉(zhuǎn)，多樣品同時(shí)鍍膜時(shí)，鍍膜厚度比較均勻。2、預(yù)濺射擋板功能，剛開始鍍膜的時(shí)候腔室里會(huì)有些雜質(zhì)，擋板可以保護(hù)樣品，提高薄膜質(zhì)量3、帶有水冷系統(tǒng)，可以長時(shí)間濺射鍍膜，厚度可達(dá)1微米以上。4、直流磁控濺射，提高附著力，濺射速率快，比離子濺射快上一個(gè)量級(jí)。針對(duì)某些金屬最快能達(dá)到1-2納米每秒，5、不但可以電鏡制樣，還可以制作金屬電極。6、可擴(kuò)展膜厚監(jiān)測，監(jiān)測薄膜厚度。濺射儀使用需注1 靶材需要良好的導(dǎo)電性, 如果具備這個(gè)條件可以鍍 2 遇到容易氧化的金屬需要配備分子泵把本底真空抽到1E-3Pa 放氬氣維持真空到1Pa左右鍍膜的金屬接近本色