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2025-04-25 14:13:57離子束切割拋光儀: 離子束切割拋光儀是一種高科技的精密加工設(shè)備，它利用高能離子束對材料表面進行精確切割與拋光。該儀器具有加工精度高、熱影響區(qū)小、適用于多種材料等優(yōu)點，廣泛應用于半導體、光學、航空航天等領(lǐng)域。通過調(diào)整離子束的參數(shù)，如能量、束流和掃描速度，可實現(xiàn)對材料表面的微米級甚至納米級加工，滿足復雜結(jié)構(gòu)的制造需求。離子束切割拋光儀是現(xiàn)代微納加工技術(shù)中的重要工具。

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離子束切割拋光儀資訊

預算150萬元中國科學院蘭州化學物理研究所采購離子束切割拋光儀

中國科學院蘭州化學物理研究所離子束切割拋光儀采購項目招標項目的潛在投標人應在獲取方式一：獲取文件時請攜帶供應商資格要求的資料、營業(yè)執(zhí)照、法人身份證復印件、授權(quán)委托函（原件）、被授權(quán)人身份證復印件，以

 儀器賞析家 48
2025-04-14
離子束切割拋光儀
徠卡EM TIC3X三離子束切割拋光儀在地質(zhì)樣品中的應用

 徠卡顯微系統(tǒng)(上海)貿(mào)易有限公司 334
2020-09-14

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離子束切割拋光儀問答

2022-11-25 16:10:30離子束刻蝕（IBE）技術(shù)研究: 離子束刻蝕（IBE）技術(shù)研究 1.離子束刻蝕（IBE）技術(shù)的原理？離子束刻蝕（IBE，Ion Beam Etching）也稱為離子銑（IBM，Ion Beam Milling），也有人稱之為離子濺射刻蝕，是利用輝光放電原理將氬氣分解為氬離子，氬離子經(jīng)過陽極電場的加速對樣品表面進行物理轟擊，以達到刻蝕的作用。刻蝕過程即把Ar氣充入離子源放電室并使其電離形成等離子體，然后由柵極將離子呈束狀引出并加速，具有一定能量的離子束進入工作室，射向固體表面轟擊固體表面原子，使材料原子發(fā)生濺射，達到刻蝕目的，屬純物理刻蝕。工件表面有制備溝槽的掩膜，最后裸露的部分就會被刻蝕掉，而掩膜部分則被保留，形成所需要的溝槽圖形。離子束刻蝕使高方向性的中性離子束能夠控制側(cè)壁輪廓，優(yōu)化納米圖案化過程中的徑向均勻性和結(jié)構(gòu)形貌。另外傾斜結(jié)構(gòu)可以通過傾斜樣品以改變離子束的撞擊方向這一獨特能力來實現(xiàn)。在離子束刻蝕過程中，通常情況下，樣品表面采用厚膠作為掩模層，刻蝕期間富有能量的離子流會使得基片和光刻膠過熱。為了便于后面光刻膠的剝離清洗，一般需要對樣品臺進行冷卻處理，使整個刻蝕過程中溫度控制在一個比較好的范圍。圖1 離子束刻蝕設(shè)備結(jié)構(gòu)圖圖2 離子束刻蝕工藝原理圖 2.離子束刻蝕（IBE）適合的材料體系？可用于刻蝕加工各種金屬（Ni、Cu、Au、Al、Pb、Pt、Ti等）及其合金，以及非金屬、氧化物、氮化物、碳化物、半導體、聚合物、陶瓷、紅外和超導等材料。目前離子束刻蝕在非硅材料方面優(yōu)勢明顯，在聲表面波、薄膜壓力傳感器、紅外傳感器等方面具有廣泛的用途。 3. 離子束刻蝕（IBE）技術(shù)的優(yōu)點和缺點？a 優(yōu)點：（1）方向性好、無鉆蝕、陡直度高；（2）刻蝕速率可控性好，圖形分辨率高，可達0.01um；（3）屬于物理刻蝕，可以刻蝕各種材料（Si、SiO2、GaAs、Ag、Au、光刻膠等）；（4）刻蝕過程中可改變離子束入射角來控制圖形輪廓，加工特殊的結(jié)構(gòu)；b 缺點：（1）刻蝕速率慢、效率比ICP更低；（2）難以完成晶片的深刻蝕；（3）屬于物理刻蝕，常常會有過刻的現(xiàn)象。 4.反應離子束刻蝕（RIBE）技術(shù)簡介及優(yōu)點？反應離子束刻蝕（RIBE）是在離子束刻蝕的基礎(chǔ)上，增加了腐蝕性氣體，因此它不但保留了離子束物理刻蝕能力，還增加了腐蝕性氣體（氟基氣體、O2）離化后對樣品的化學反應能力（反應離子束刻蝕：RIBE），也支持腐蝕性氣體非離化態(tài)的化學輔助刻蝕能力（化學輔助離子束刻蝕：CAIBE），對適用于化學輔助的材料可以大幅度提升刻蝕速率，提高刻蝕質(zhì)量。 5. 離子束刻蝕（IBE）的案例展示典型應用：1、三族和四族光學零件2、激光光柵3、高深寬比的光子晶體刻蝕4、在二氧化硅、硅和金屬上深溝刻蝕5、微流體傳感器電極6、測熱式微流體傳感器

2022-08-16 21:44:30福州大學離子束刻蝕機順利驗收: 福州大學離子束刻蝕機順利驗收烈日炎炎，熱情滿心間！后疫情時代，NANO-MASTER工程師步履不停，一站接一站為客戶提供設(shè)備安裝調(diào)試服務(wù)。首站福州大學，那諾-馬斯特工程師已順利安裝驗收NIE-3500型離子束刻蝕機！性能配置：離子束刻蝕機用于刻蝕金屬和介質(zhì)，z大可支持6”晶圓。配套美國考夫曼-羅賓遜 KDC160離子槍，650mA，100-1200V。刻蝕速率：~250A/min對Au；刻蝕均勻度：對4”片，片內(nèi)均勻性優(yōu)于±3%，重復性優(yōu)于±3%。樣品臺可旋轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)速0-30RPM精確可控；可任意角度傾斜，支持斜齒刻蝕；帶水冷功能，刻蝕后易去除光刻膠。極限真空12小時可達6x10-7Torr，15分鐘可達10-6Torr量級的真空；采用雙真空計，長期可靠，使用穩(wěn)定。14”不銹鋼立方腔體，配套一臺主控計算機，20”觸摸屏監(jiān)控，配合Labview軟件，實現(xiàn)計算機全自動工藝控制，并可在電源中斷情況下安全恢復；完全的安全聯(lián)鎖；支持百級超凈間使用。驗收培訓：安裝調(diào)試視頻：

2023-06-09 10:43:04【學海拾“金”】如何選擇合適的切割輪: 弗爾德每周知識小百科旨在分享材料科學領(lǐng)域的科普知識，探索未知，激發(fā)熱情。每周一小步，材料科學發(fā)展一大步。Q 如何選擇合適的切割輪？A 作為一個經(jīng)驗法則，以下原理有助于選擇正確的材料: 硬質(zhì)材料建議采用軟質(zhì)粘接的切割輪中硬度材料建議采用中硬度粘接的切割軟材料建議采用硬粘接切割輪大多數(shù)制造商為其切割輪指定一個制造日期或最佳使用日期。由于結(jié)合劑的環(huán)氧樹脂具有吸濕性，也就是說，它們會吸收水分，因此必須遵守上述日期。結(jié)合劑中的水分在數(shù)月或數(shù)年后可能會導致切割輪脆化。在這種情況下，切割輪仍可使用，但其磨損會顯著增加，同時碎裂的風險也會大大增加。對于延展性很高的材料, 如鈦或塑料，通常使用以碳化硅為磨料顆粒的切割輪（同樣為樹脂粘接）。金剛石切割輪適用于非常硬的材料（陶瓷、玻璃纖維增強塑料、礦物、玻璃等）。共有兩種不同的粘接劑類型可供選擇：金屬粘接切割輪，其中金剛石通常嵌入青銅粘接劑當中；或者那些合成樹脂粘接劑。后者特別適用于切割非常脆的材料。與鋸片相比，切割輪產(chǎn)生更為光滑和更少變形的表面以及進出樣品位置的突變接觸，這大大減少了必須通過后續(xù)金相研磨去除的變形層的厚度。

2023-07-26 14:59:40【沈陽科晶小課堂】陶瓷基板的異形切割: 大家好，本期我們?yōu)榇蠹規(guī)淼氖恰柑沾苫宓漠愋吻懈睢梗凑堄^看！▼/ 前情提要 /本期沈陽科晶小課堂為您講解陶瓷基板的異形切割！使用設(shè)備：STX-100QX金剛石曲線切割機▼/ 點擊觀看視頻 /https://www.bilibili.com/video/BV1WD4y1w7cy/?spm_id_from=333.999.0.0&vd_source=48b2839b1745a92518bd1d7eb3bbaba9▼/ 小結(jié) / 氧化鋁陶瓷基板切割取圓（直徑10/12.7mm），可編輯任意圖形，并可通過樣品疊層的方式大幅提高加工效率，同時滿足科研和生產(chǎn)兩大要求，歡迎各位客戶蒞臨或郵寄樣品到科晶實驗室體驗測試！歡迎后臺區(qū)留言！

2023-06-09 11:05:09【學海拾“金”】脆性表面涂層（如等離子噴涂涂層）的切割: 弗爾德每周知識小百科旨在分享材料科學領(lǐng)域的科普知識，探索未知，激發(fā)熱情。每周一小步，材料科學發(fā)展一大步。濕式砂輪切割正確取樣來避免假象切割脆性表面涂層時必須考慮以下幾點：須正確選擇切割輪正確夾持待切割樣品。要切割的涂鍍層不得朝下夾在切割輪的出口區(qū)域，這將導致切割輪在退出時使脆性層脫離基材過高的進給速率（壓力）會導致層中出現(xiàn)裂紋冷卻不足會導致層產(chǎn)生碎裂從而模擬出假孔隙。脆性等離子噴吐涂層的碎裂和裂紋形成如圖1所示。這種情況下并未使用精密切割機，并且樣品定位不正確。在使用正確機器和并且定位理想的情況下處理相同樣品則會給出圖2所示結(jié)果。選擇不合適的切割方法（圖1）使用精密切割機切割后（圖2）程序：將待檢查的表面涂層夾緊在夾具中，其中涂層本身位于頂部。這樣切割輪可以從上方穿透涂鍍層。該層或樣品在沒有任何碎裂的情況下被切割；可在顯微鏡下進行評估并且沒有任何問題。