- 2025-01-21 09:33:52icp刻蝕
- ICP刻蝕，即電感耦合等離子體刻蝕，是一種利用高頻電磁場(chǎng)產(chǎn)生等離子體進(jìn)行物理與化學(xué)相結(jié)合的刻蝕技術(shù)。它通過(guò)將氣體電離形成高活性的等離子體，這些等離子體在電場(chǎng)加速下轟擊樣品表面，同時(shí)與樣品表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，從而實(shí)現(xiàn)高精度、高速度的刻蝕。ICP刻蝕在半導(dǎo)體制造、微納加工等領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用，可實(shí)現(xiàn)復(fù)雜結(jié)構(gòu)的精確制造。
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