Nano-2000 系列 3D 光學干涉輪廓儀建立在移相干涉測量（PSI）、白光垂直掃描干涉測量（VSI）和單色光 垂直掃描干涉測量（CSI）等技術的基礎上，以其納米級測量準確度和重復性（穩定性）定量地反映出被測件的表面粗 糙度、表面輪廓、臺階高度、關鍵部位的尺寸及其形貌特征等。廣泛應用于集成電路制造、MEMS、航空航天、精密加 工、表面工程技術、材料、太陽能電池技術等領域

產品優勢
? 美國硅谷研發的核心技術和系統軟件
? 關鍵硬件采用美國、德國、日本等品牌 PI 納米移動平臺及控制系統 Nikon 干涉物鏡 NI 信號控制板和 Labview64 控制軟件 TMC 光學隔振臺
? 測量準確度重復性達到世界水平（ZG計量科學研究院證書）

規格書：
? 測量模式 移相干涉（PSI），白光垂直掃描干涉（VSI），單色光垂直掃描干涉（CSI）
? 樣 品 臺 150mm/200mm/300mm 樣品臺（可選配） XY 平移：±25mm/150mm/200mm/300mm，傾斜：±5° 可選手動/電動樣品臺
? CCD 相機像素 標配：1280×960
? 視場范圍 560×750um（10×物鏡） 具體視場范圍取決于所配物鏡及 CCD 相機
? 光學系統 同軸照明無限遠干涉成像系統
? 光 源 LED

? Z 方向聚焦 80mm 手動聚焦（可選電動聚焦）

? Z 方向掃描范圍 精密 PZT 掃描(可選擇高精密機械掃描，拓展達 10mm )
? 縱向分辨率 ＜0.1nm
? RMS 重復性* 0.005nm，1σ
? 臺階測量** 準確度 ≤0.75％；重復性 ≤0.1%，1σ
? 橫向分辨率 ≥0.35um（100 倍物鏡）
? 檢測速度 ≤ 35um/sec , 與所選的 CCD 和掃描模式有關

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