儀器簡介：

加熱制冷循環槽，又稱低溫恒溫浴槽，是自帶制冷和加熱的高精度恒溫源，兼具小型冷水機的功能。廣泛應用于石油、化工、冶金、醫藥、生化、物性，測試及化學分析等研究部門、高等院校、工廠實驗室及計量質檢部門。根據槽開口尺寸的不同，可在浴槽內進行恒溫實驗，亦可通過軟管與其他設備相連接，與恒溫源配套使用。內循環：通過泵對槽內液體介質的循環吞吐，增加槽內溫度的均勻性，減少溫度波動。外循環：通過泵的循環能力，利用出水口將保溫軟管與外部設備連接，形成封閉回路，流回設備進水口，是將槽內恒溫介質外引，建立外部恒溫場。循環水恒溫的應用領域：

生化領域：旋轉蒸發儀、阿貝折光儀、旋光儀、原子吸收、ICP-MS 、ICP、核磁共振、CCD、生物發酵罐、化學反應器（合成器）等。材料領域：電鏡、X射線衍射、X熒光、真空濺射電鍍、真空鍍膜機、ICP刻蝕、各種半導體設備、疲勞試驗機、化學沉積系統、原子沉積系統等。醫療領域：超導磁共振、直線加速器、CT、低磁場核磁共振、X光機、微波ZL機、醫用冷帽、降溫毯等等。物化領域：激光器、磁場、各種分子泵、擴散泵、離子泵以及包括材料領域。使用的各種需水冷設備。

技術參數：

【高精度恒溫水槽.油槽的參數說明】
型號
溫度范圍（℃）
溫度波

動度

（℃）
數顯分辨率（℃）

工作槽容積（mm3）
槽深度（m）
循環泵流量

(L/min）
工作槽開口（mm2）

GDH-0506
-5~100
±0.005~±0.02
0.001
250×200×150
150
6
180×150

主要特點：

產品特點：

節約能源在夏季和高環境溫度下，冷卻水可在系統回路中循環使用，節約大量的水資源。

效率更高一臺循環水設備可同時滿足多臺外部設備的冷卻需求，持續提供低溫恒溫水源，適用于冷凝實驗。

控溫精度PID控溫技術，內置PT100傳感器、控溫精度高，溫度數字顯示，操作直觀

安全性高――具有自我診斷功能；冷凍機過載保護等多種安全保障功能。

低溫不凍液配比

A乙二醇水溶液：乙二醇/水 55/45 （－30℃）、70/30 （－40℃）

B丙三醇水溶液：丙三醇/水 70/30 （－30℃）使用中需經常檢查低溫不凍液的密度使其滿足如下要求：1.乙二醇水溶液：P20=1079/m3 （－30℃）（－40℃）2.丙三醇水溶液：P20=1182.6/m3 （－30℃）不凍液用水代替時，其zuidi溫度必須在0℃以上。

冷卻水選型相關：通常，制冷能力在1000W以下機型小型循環水冷卻恒溫器廣泛運用小功率激光器、平行蒸發儀、平行定量濃縮儀、平行反應器、蒸餾儀等實驗室冷凝裝置等。制冷能力在6000W以下中型循環水冷卻恒溫器廣泛應用于AAS、ICP、ICP-MS、電鏡等分析儀器行業，旋轉蒸發儀、索氏提取、固液萃取儀、凱氏定氮儀等實驗室設備，激光打標機、激光切割機等激光儀器及機床行業。制冷能力在10KW以上大型循環水冷卻恒溫器廣泛應用于X－衍射儀、磁質譜儀、疲勞試驗機、真空鍍膜機、塑料成形設備、激光切割機、X－熒光光譜儀、紅外光譜儀、差熱分析儀、核磁共振等具有高制冷恒溫要求設備。



應用范圍：

對半導體制造裝置發熱部的冷卻：單晶片洗凈轉載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。

對激光裝置發熱部分的冷卻：激光加工、熔接機的發熱部分、激光標志裝置、發生裝置、二氧化碳激光加工機等。

其他產業用機器發熱部分的冷卻：等離子熔接、自動包裝機、模具冷卻、洗凈機械、鍍金槽、精密研磨機、射出成型機、樹脂成型機的成型部分等。

分析檢測機器的發熱部分的冷卻： 電子顯微鏡的光源、ICP發光分光分析裝置的光源部分、分光光度計的發熱部分、X線解析裝置的熱源、自動脈沖調幅器的發熱部分原子吸光光度計的光源等。水箱可用優質的純凈水在機內外循環冷卻，可保證對水質要求較高的精密儀器的正常運行，延長精密儀器的使用壽命。