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生物分子點印加工系統
- 品牌:ACST
- 型號: NLP 2000
- 產地:美洲 美國
- 供應商報價:面議
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北京佰司特科技有限責任公司
更新時間:2024-07-26 16:48:06
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銷售范圍售全國
入駐年限第7年
營業執照已審核
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- 生物分子點印加工系統 核心參數
產品特點
- NLP 2000可以很好地應用于微納米芯片的大面積點印沉積。NLP 2000的原理基于Dip Pen Nanolithography(蘸水筆納米刻蝕技術),是**個能夠在大的基底表面點印亞微米圖案的系統。由于點印的團的大小可以從100 nm到10uM以上,NLP 2000給納米加工刻蝕技術帶來前所未有的方便。
詳細介紹
生物分子點印加工系統
------(蛋白質/DNA/抗原/抗體/脂質體等)
NLP 2000系統是一個用戶界面友好并且簡單方便的臺式納米加工平臺,可以以亞微米級別的精確度和分辨率將多種材料點印到基底模板上。整合MEMS和沉積技術到NLP 2000系統的點印和自動化軟件之中,用戶可以在幾十分鐘內隨意創造出自定制化的圖案。NLP 2000可以很好地應用于微納米芯片的大面積點印沉積。NLP 2000的原理基于Dip Pen Nanolithography(蘸水筆納米刻蝕技術),是第一個能夠在大的基底表面點印亞微米圖案的系統。由于點印的團的大小可以從100 nm到10uM以上,NLP 2000給納米加工刻蝕技術帶來前所未有的方便。NLP 2000可以提供1-10微米的點印,使它成為納米工程和生物材料的領域的理想工具,例如:
多重蛋白質點印
生物芯片功能化
細胞微米/納米圖案研究
聚合物點印,包括乙二醇和丙烯酸
特點和優勢
除了可以點印多種材料的納米/微米圖案之外,NLP 2000的優點還有:
快速點印多種成分的團,分辨率在1-10微米
自動化,精確,同一平面的點印區域可達到40mm ×40mm
微米結構的材料的功能化加工
通過高倍分辨率的光學顯微鏡 & 環境腔進行過程檢測和控制
用戶友好的軟件
材料點印的標準流程
標準配置
NLP2000 系統主機,光學部分,控制器
M-型多探針陣列。儲液池,基底板
快速啟動說明,用戶操作手冊,CD
一年保修,配件和人力
環境控制腔
整合的隔震臺
延遲的有限質保,1年
大區域、全自動、精確的點印
除了一個大的40mm × 40mm XY平臺之外,NLP 2000系統包括基本培訓之后用戶快速點印大的表面的所需要的所有軟硬件。NLP 2000 配置的3個壓電驅動的線性位移臺(XYZ)和2個角位臺 Goniometer Stage(Tx和Ty)確保了大區域精確快速點印的穩定性。全自動的調平控制系統,標準的點印規則,以及軟件腳本處理使NLP 2000系統可以簡單、自動、可控的完成長時間點印。
微結構的功能化
通過使用NLP 2000系統的高分辨率平臺,亞微米光學分辨率和樣品點印界面,科學家可以簡單方便的功能化傳感器,陣列傳感器,微接觸印刷印章,微流體設備,或者其他預裝配的微結構。
可控地點印環境
為了全面的監控和控制點印過程,NLP 2000 系統配置了高分辨率的光學顯微鏡和環境控制腔,以及隔震臺。整合的環境控制腔可以是用戶控制和記錄溫度,濕度和其他參數,用于實時或者后續的分析和校準。此外,NLP 2000 還可以兼容市場上的主動和被動的各種防震臺。
點印的材料和基底:NLP 2000 系統可以點印和成像多種分子材料和液體到不同的基底材料,黏度范圍可以從1-20000 cP。
點印的材料
☆ 蛋白質
☆ 核酸
☆ 抗原
☆ 脂質體
☆ 納米顆粒
☆ 聚乙二醇
☆ UV-固化的多聚體
☆ 熱-固化的多聚體
☆ 甘油
☆ 硅烷
兼容的基底
☆ 硅
☆ 二氧化硅
☆ 硅烷化表面
☆ 氨基活化的玻片
☆ 金屬
☆ PDMS
☆ 水凝膠
☆ 聚苯乙烯
☆ 催化劑
☆ 硫醇
技術資料
點樣體積 | 0.1-10ul; | 點樣密度 | 0.1um |
點樣速度 | 1000/min | 點樣直徑 | 0.1-100um |