掃描電子顯微鏡
Apreo 革命性的復(fù)合透鏡設(shè)計結(jié)合了靜電和磁浸沒技術(shù),可產(chǎn)生前所未有的高分辨率和信號選擇。這使得 Apreo 成為研究納米顆粒、催化劑、粉末和納米器件的理想平臺,并且不會降低磁性樣品性能。
Apreo 受益于獨特的透鏡內(nèi)背散射探測,這種探測提供卓越的材料對比度,即使在傾斜、工作距離很短或用于敏感樣品時也不例外。新型復(fù)合透鏡通過能量過濾進(jìn)一步提高了對比度并增加了用于絕緣樣品成像的電荷過濾。可選低真空模式現(xiàn)在的最大樣品倉壓力為 500 Pa,可以對要求最嚴(yán)苛的絕緣體進(jìn)行成像。
通過這些優(yōu)勢(包括復(fù)合末級透鏡、高 級探測和靈活樣品處理),Apreo 可提供出色的性能和多功能性,幫助您應(yīng)對未來的研究難題。
· 獨有的復(fù)合末級透鏡可在任何樣品(即使在傾斜時或進(jìn)行地形測量時)上提供優(yōu)異的分辨率(1 kV 電壓下為 1.0 nm),而無需進(jìn)行電子束減速。
· 作用極大的背散射探測 - 始終保證良好的材料對比度,即使以低電壓和電子束電流并以任何傾斜角度對電子束敏感樣品進(jìn)行 TV 速率成像時也不例外。
· 無比靈活的探測器 - 可將各個探測器部分提供的信息相結(jié)合,獲得至關(guān)重要的對比度或信號強度。
· 各種各樣的電荷緩解策略,包括樣品倉壓力高為 500 Pa 的低真空模式,可實現(xiàn)任何樣品的成像。
· 卓越的分析平臺提供高電子束電流,而且光斑很小。樣品倉支持三個 EDS 探測器、共面的 EDS 和 EBSD 以及針對分析進(jìn)行了優(yōu)化的低真空系統(tǒng)。
· 樣品處理和導(dǎo)航極其簡單,具有多用途樣品支架和 Nav-Cam+。
· 通過老用戶指導(dǎo)、預(yù)設(shè)和撤消功能為新用戶提供專家級結(jié)果。
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SU3900/SU3800 SE系列作為FE-SEM產(chǎn)品,配置超高分辨率與觀察能力。此系列突破了傳統(tǒng)SEM產(chǎn)品受安裝樣品尺寸與重量的限制,通過簡單的操作即可實現(xiàn)數(shù)據(jù)采集。可用于鋼鐵等工業(yè)材料,汽車、航空航天部件等超大、超重樣品的觀察。 此外,SE系列包括4種型號(兩種類型,兩個等級),滿足眾多領(lǐng)域的測試需求。用戶可以根據(jù)實際用途(如微觀結(jié)構(gòu)控制:用于改善電子元件、半導(dǎo)體等材料的功能和性能;異物、缺陷分析:用于提高產(chǎn)品品質(zhì))選擇適合的產(chǎn)品。
1波長范圍:400 - 1000 nm 2每一像素同時檢測時間(ToA)和強度(ToT)3時間分辨率1.6 ns,有效幀速率> 500 MHz 4無損、數(shù)據(jù)驅(qū)動讀出速度高達(dá)80 Mhits / s
高性能電子光學(xué)系統(tǒng) 二次電子分辨率: 頂位二次電子探測器(2.0 nm at 1kV)* 高靈敏度: 高效PD-BSD, 超強的低加速電壓性能,低至100 V成像 大束流(>200 nA): 便于高效微區(qū)分析 性能優(yōu)異 壓力可變: 具有優(yōu)異的低真空(10 -300 Pa)成像性能,配備高靈敏度低真空探測器(UVD)* 開倉室快速簡單換樣(Z大樣品尺寸: Φ 200 mm x 80 mmH) 微區(qū)分析: EDS, WDS, EBSD等等
ParticleX TC 全自動汽車清潔度分析系統(tǒng) 取代傳統(tǒng)顆粒物清潔度檢測方法,允許工程師看見微米尺寸的顆粒并確定其化學(xué)成分,從而判斷出污染源。