全自動顯微角分辨光譜及成像系統

角分辨光譜

  角分辨光譜儀具有在不同角度下探測材料光譜性質的能力，突破傳統光譜技術不能分辨角度的局限，是獲取光子材料色散關系，實現光學性質“全面表征”的重要手段，在微納光子學、低維材料、發光材料等領域具有重要應用價值。
北京卓立漢光儀器有限公司推出地全自動顯微角分辨光譜及成像系統主要用于表征經樣品透反射的白光角分辨譜（即色散關系）及表征自身熒光或SHG發射光散射光的空間光角度分布信息。常見應用有單分子或量子點的熒光角分辨成像及拍譜、金屬或介質的超構表面的白光角分辨成像及拍譜、金屬納米結構@TMDs雜化強耦合交叉線型白光角分辨成像等。

系統結構

顯微角分辨光譜是由白光源經科勒照明光路后再經物鏡產生寬場各個角度的平行光入射到樣品上；樣品上出射的各個角度的光再由物鏡收集聚焦在后焦面上，角分辨收集光路再對物鏡后焦面上的光進行成像；最 終物鏡后焦面上的光點即可由光譜儀CCD面陣列成像，也可由光纖頭收集進入光譜儀采集角分辨光譜。該全自動顯微角分辨光譜及成像系統支持全電動變入射及收集角度、實空間與動量空間電動切換、最小角度0.028°，寬光譜范圍測試400-1700nm全系統采用大通光空間元件，角度光收集效率更高、可定入射收集角度，可為光子晶體、拓撲光子學、超構材料和光-物質強耦合等研究領域提供卓 越的解決方案。

全自動顯微角分辨光譜及成像系統技術參數

1.測量模式: 全角度入射透反射模式，定角度入射透反射模式，白光角分辨光譜及成像模式，熒光角分辨光譜及成像模式。
2.光譜范圍: 可見光波段400～1000nm（2nm光譜分辨率@光纖光譜儀，1nm@150g/mm光柵@可見成像光譜儀)；900～1700nm@6nm光譜分辨率@光纖光譜儀，1.5nm@150g/mm光柵@近紅外成像光譜儀)。
3.反射入射角度范圍:±60°(可見)，±50°（近紅外）。
4.透射入射角度范圍:±50°(可見)，±50°（近紅外）。
5.信號光收集角度范圍:±60°(可見)，±50°（近紅外）。
6.角度分辨率:0.5°@50um芯線光纖@0.9NA100倍物鏡，0.05°@50um芯線光纖@0.25NA10倍物鏡,0.12°/pixel@1024*1024面陣列CCD@0.9NA100倍物鏡,0.028°/pixel@1024*1024面陣列CCD@0.25NA10倍物鏡。
7.定角度入射范圍角度分辨率:<4°。
8.定區域測量范圍:1um～200um@0.9NA100倍物鏡下，10um～2mm@0.25NA10倍物鏡下。  
9.雙入雙出引光口，兼容空間光與光纖口收集。
10.實空間與動量空間電動切換，可兼容角分辨熒光發射譜和共聚焦熒光譜。
11. 全電動化操作實現樣品移動，聚焦，mapping，自動化變功率和變偏振采譜。
12.測試模塊擴展（自選）
1）支持功能模塊疊加使用：
可原位測量多種光譜；多種光譜功能結合測量（比如熒光角分辨拍譜及成像、暗場散射角分辨拍譜及成像等）。
2）支持的模塊包含但不限于：
顯微成像模塊、角分辨模塊、共聚焦熒光及壽命模塊、透射模塊、二次諧波模塊、掃描振鏡模塊、低波數拉曼模塊、光電流模塊、暗場散射模塊等。
3）以上功能模塊均可配合電動二維臺實現二維掃描成像
4）支持低溫臺適配，可按要求提供低溫臺與顯微鏡耦合機械轉接件

全自動顯微角分辨光譜及成像系統典型應用

金納米球超晶格近紅外波段的白光角分辨光譜，反映該結構的光學共振模式隨著白光入射角度的變化規律，根據測量結果可優化結構設計利用EBL加工的金納米顆粒陣列可見光波段的白光角分辨光譜，表征該結構的局域與表面晶格共振這兩個光學共振模式與白光入射角度的關系，可得到相應結構參數對光學共振模式的調制規律。