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兩維平臺(XY平臺)
- 品牌:德國MW
- 型號: EK 14 mot 76X30
- 產地:歐洲 德國
- 供應商報價:面議
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上海涉科光電科技有限公司
更新時間:2025-06-27 13:12:29
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銷售范圍售全國
入駐年限第3年
營業(yè)執(zhí)照已審核
- 同類產品運動控制(5件)
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產品特點
- 兩維維XY電動平臺
重復定位精度:0.2um
運動速度:0-240mm/s
垂直度:10 Arcsec
步長:0.01um
行程:75*50mm~600*600mm
適配于Olympus、Nikon、Leica、Zeiss等品牌正置、倒置顯微鏡,并兼容不同軟件 詳細介紹
MW公司成立于1946年,總部位于德國Wetzlar(Zeiss和Leica總部所在地),專門研發(fā)、生產、制造相關運動控制配件,包括兩維平臺、電動聚焦單元、玻片裝載裝置、顯微操作手、LED照明等產品。
1. 基礎版、經濟型
型號
BASIC
EK 14 mot 76X30
BASIC
EK 14 mot 76X52
行程
76X30
76X52
重復精度
<5um
<5um
準確度
+/-20um
+/-20um
分辨率
速度
120mm/s
120mm/s
2. 一體化(集成控制器、測量反饋裝置)
型號
ECO
EK 75X50 Pilot
行程
76X52
重復精度
1um(雙向)
準確度
+/-3um
分辨率
0.05um
速度
120 mm/s
3. 高精度(五年質保)型號
Scan
75X30
Scan
75X50
Scan
100X100
Scan
150X150
Scan
200X200
Scan 300X300
行程
75X38
76X52
100X100
150X150
200X200
300X300
重復精度
1um(雙向)
1um(雙向)
0.2um
0.2um
1um(雙向)
1um
準確度
+/-3um
+/-3um
+/-3um
+/-3um
+/-3um
+/-5um
分辨率
0.01um
0.01um
0.01um
0.01um
0.01um
0.1um
速度
60-240 mm/s
25-50 mm/s
60-240 mm/s
120-240 mm/s
60-240 mm/s
60-240 mm/s
4. 高精度,帶測量反饋裝置(五年質保)
型號
Scan Plus
75X50
Scan Plus
130X85
Scan Plus
100X100
Scan Plus
150X150
Scan Plus
200X200
Scan Plus
300X300
行程
76X52
130X85
100X100
150X150
200X200
300X300
重復精度
1um(雙向)
1um(雙向)
0.2um
0.2um
1um(雙向)
1um(雙向)
準確度
+/-1um
+/-1um
+/-1um
+/-1um
+/-1um
+/-1um
分辨率
0.05um
0.05um
0.05um
0.05um
0.05um
0.05um
速度
50mm/s
180mm/s
120-240mm/s
240mm/s
240mm/s
240 mm/s
5. 電動聚焦單元
型號
MFD MFD-2 MA 42
Piezo Z stage納米位移臺
行程
直接耦合在顯微鏡Z軸旋轉精細軸上
300um
重復精度
4nm
準確度
0.5%
分辨率
0.002um
4nm
速度
60 rev/s
Settling time 25ms
載重 500g
6. 手動平臺
除了電動平臺,MW還提供手動平臺,可帶游標卡尺或數字測量裝置,可選行程100X100,150X150,200X200,300X300mm