產(chǎn)品概述

「監(jiān)控粒子的動(dòng)態(tài)變化」詳實(shí)記錄粒子數(shù)量與大小。把制造環(huán)境中的粒子堆積風(fēng)險(xiǎn)，用數(shù)據(jù)化來管理

APMON采即時(shí)監(jiān)控，紀(jì)錄粒子落下發(fā)生的高峰時(shí)間，進(jìn)一步比對(duì)發(fā)生當(dāng)下的人、事、物行為，找出引發(fā)落塵的“程序”“行為”。這一檢測(cè)粒子發(fā)生原因，并且抑 制粒子發(fā)生的過程，有助于降低5μm以上的粒子附著。是歐規(guī)標(biāo)準(zhǔn)中的重要檢討項(xiàng)目。

經(jīng)由解析落下粒子的大小

來改善生產(chǎn)線潔凈度

APMON可以用圖表呈現(xiàn)，過去特定時(shí)段內(nèi)，機(jī)臺(tái)所觀測(cè)到的粒子大小分布方式。

15~30μm一般是皮膚或纖維、100um以上則多半是衣物纖維造成。30μm以下的粒子，

雖然有可能被換氣排出，但是從現(xiàn)場(chǎng)的人員進(jìn)出程序，與活動(dòng)管制切入，更能快速達(dá)成目標(biāo)清潔度。

在已經(jīng)檢出50μm以上的大型粒子的空間里，首先應(yīng)進(jìn)行潔凈流程的重建，后續(xù)才能有效回復(fù)清潔，

無塵室中所使用，大型粒子的監(jiān)控規(guī)格

粒子堆積率（Particle Deposition Rate）是指？

APMON不只是即時(shí)監(jiān)控15~1000μm的所有粒子的動(dòng)態(tài)數(shù)量，他還能計(jì)算出-段特定時(shí)間內(nèi)的粒子堆積率PDR

PDR=粒子數(shù)（> Dμm）/面積（1m2）/時(shí)間（1h）

PDR能指出長(zhǎng)時(shí)間堆積粒子的趨勢(shì)，相當(dāng)于每1平方公尺，表面上的粒子濃度變化率。

探用PDR做評(píng)價(jià)風(fēng)險(xiǎn)的指標(biāo)，符合IS014644-17對(duì)于大型粒子的監(jiān)控要求。

相對(duì)于PDR, PDRL定了義PDR的上限值（Particle Deposition Rate Limits）

藉由監(jiān)控粒子堆積率，來管制大型粒子

APMON對(duì)于PDR參數(shù)的監(jiān)控，可將生產(chǎn)環(huán)境中的落下粒子：濃度變化、大小分布，以及覆蓋范圍變化等動(dòng)態(tài)，完全掌握。這數(shù)據(jù)，將協(xié)助定義出關(guān)鍵工作區(qū)域內(nèi)的大型粒子「可允許濃度」（個(gè)數(shù)/面積），并加以監(jiān)控后續(xù)每當(dāng)「可允許濃度」發(fā)生超標(biāo)的情形，就可以立即針對(duì)相關(guān)的「行為小「接觸小、「表面清潔度J等等，進(jìn)行試驗(yàn)性的改善，重新降低PDR。

以下是我們對(duì)于管控?zé)o塵室內(nèi)的大型粒子，提出的完整建議：

1.使用PartSens評(píng)價(jià)關(guān)鍵位置的表面污染情形。

2.使用APMON建立無塵室內(nèi)的行為準(zhǔn)則。

APMON/PartSens將粒子的夾帶、產(chǎn)生、堆積等過程，全面數(shù)據(jù)化。

如何詳細(xì)描述風(fēng)險(xiǎn)性粒子

關(guān)鍵粒徑（μm）

容許濃度（粒子數(shù)）

產(chǎn)品的關(guān)鍵表面大小（cm2）

關(guān)鍵工作區(qū)域（m2）

如何設(shè)定潔凈度的上限規(guī)格

PDR （粒子堆積率）上限

SCP（表面潔凈度）上限

檢測(cè)原理

雷射全像技術(shù)可以實(shí)現(xiàn)大面積的監(jiān)控

借由雷射光在物體表面繞射，及傅立葉轉(zhuǎn)換等技術(shù)，實(shí)現(xiàn)3D成像，所得資料，即是五分鐘前的粒子落下數(shù)量與粒子大小的累積值。

最短監(jiān)控時(shí)間間隔，可以短至五分鐘。

能執(zhí)行大面積的監(jiān)測(cè),APMON的一大優(yōu)勢(shì)

粒子計(jì)數(shù)器(air particle counter)

只能檢測(cè)漂浮在無塵室空氣中的浮游粒子

粒子計(jì)數(shù)器（air particle counter）

通常是用窄口徑的取樣管，吸入粒子。

實(shí)際上，大型粒子不容易進(jìn)到粒子計(jì)數(shù)器的探測(cè)區(qū)，也無法被吸入。

ISO等國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)，已經(jīng)要求用PDR(數(shù)據(jù)化）作為落下粒子的有效管控標(biāo)準(zhǔn)。

APMON-即時(shí)粒子沉積監(jiān)控器

透過在生產(chǎn)區(qū)域布建APMON，將可以有效監(jiān)控15μm大小以上的粒子堆積行為（最短探樣區(qū)間：五分鐘）

從此，造成粒子掉落的「時(shí)間」「人員」「原因」，都將有跡可循。

■鏈接示意圖

專業(yè)軟件監(jiān)控/解析數(shù)據(jù)

■判讀數(shù)據(jù)顯示示例

涵蓋粒子大小：

15~ 30~40~ 50~60、70~80~90~ 100~200~ 300~400~500>600~ 700~800~900、1000μm (最   大直徑)

應(yīng)用領(lǐng)域

電子、半導(dǎo)體、醫(yī)藥、航空航天、精密儀器、汽車、實(shí)驗(yàn)室等領(lǐng)域的潔凈室。

技術(shù)參數(shù)

可透過藍(lán)芽、或有線網(wǎng)路做遠(yuǎn)端監(jiān)控

感測(cè)器的安裝

玻璃的承載裝置 依粒子堆積情形做更換