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NS-20系列是桌面式手動膜厚測量分析系統。在保證整體小巧輕盈的同時，其準確度和穩定性絲毫未減。擁有NanoSense系列所有的算法軟件功能，極具性價比。
NS-20 特色
手動測量，極高靈活度
標準版光斑0.8~1.5 mm
可升級到0.2 mm 微小光斑（NS-20 Pro)
可定制便攜手提箱，隨時隨地進行膜厚分析
可選配大尺寸樣品臺
NS-20系列 參數規格
| 型號 | NS-20UV | NS-20 | NS-20NIR |
| 波長范圍 | 190 nm – 1100 nm | 380 nm – 1050 nm | 950 nm – 1700 nm |
| 厚度測量范圍1 | 1 nm – 40 μm | 15 nm – 80 μm | 150 nm – 250 μm |
| 準確度2 | 1 nm 或 0.2% | 2 nm 或 0.2% | 3 nm 或 0.4% |
| 精度3 | 0.02 nm | 0.02 nm | 0.1 nm |
| 穩定性4 | 0.05 nm | 0.05 nm | 0.12 nm |
| 光斑大小 | 1.5 mm | 1.5 mm | 1.5 mm |
| 測量速度 | < 1s（單次測量） | < 1s（單次測量） | < 1s（單次測量） |
| 光源 | 鹵鎢燈 + 氘燈 | 鹵鎢燈 | 鹵鎢燈 |
| 樣品尺寸 | 直徑從1mm 到 300mm或更大 | 直徑從1mm 到 300mm或更大 | 直徑從1mm 到 300mm或更大 |
1 取決于具體材料
2 Si/SiO2(500~1000nm)標樣片
3 計算100次測量500nm SiO2標準片的1倍標準偏差，對20個有效測量日的1倍標準偏差取平均
4 計算100次測量500nm SiO2標準片的平均值，對20個有效測量日的平均值做2倍標準偏差
滬公網安備 31011502008050號