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YES-自動硅烷單層沉積系統

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產品特點

將擁有成本降低30%以上,同時ZDCD地減少自動化大批量生產中的化學用量。將VertaCoat配置為適用于各種需要精確表面修飾,高產量和可靠性的應用。

詳細介紹

產品概述

應用

?涂上化學增粘劑的超薄保形單層涂層
?精確控制MEMS器件和micro LED防粘解決方案的表面疏水性
?為光學和AR / VR應用提供高度均勻的丙烯酸酯或環氧型粘合劑涂層和界面層
?對于納米壓印光刻(NIL)應用,應涂防粘涂層以延長沖壓工具的使用壽命
?在生命科學中,應用硅烷表面單層在固體底物和生物分子(包括DNA和蛋白質)之間實現穩定的共價鍵連接
?薄的自組裝單層(SAM)涂層,用于半導體應用中的選擇性沉積

特點

?單個過程模塊的兩個負載端口EFEM或兩個過程模塊的四個負載端口EFEM的選項
?大容量腔室最多可容納五十個200/300 mm晶圓
?涂層溫度高達250°C,溫度均勻度≤1.5%,并進行多區域控制
?多達5條汽化線,具有精確的質量流量和熱控制
?遠程下游等離子發生器產生反應性原子氧,以去除反應室中的有機殘留物

優點

?低壓工藝減少了對導致晶片翹曲和損壞的高工作溫度的需求
?優異的化學沉積均勻性; 接觸角控制在+/- 3度內
?兼容多種有機硅烷,包括氨基,環氧,烷基和氯硅烷
?集成的等離子腔室清潔過程有助于保持運行過程的一致性
?環保,與濕法化學工藝相比,化學/溶劑用量明顯減少

技術參數

硬件
集成EFEM:具有2個(兩個)負載端口的1類(ISO 3)EFEM模塊
可互換的處理200mm和300mm晶圓的能力晶圓圖FOUP和PM機架的能力,可進行交叉開槽和雙槽保護
晶圓尺寸:可配置200或300 mm晶圓,或用作具有雙重處理功能的橋接工具

容量:
僅200mm配置:50個晶圓
200mm / 300mm選項配置:25個晶圓
僅300mm配置:50個晶圓
蒸汽輸送:多達5條汽化線,具有精確的質量流量和熱控制
箱體材質:316L不銹鋼
工藝氣體輸入:2個標準(3個可選),預熱
整合等離子體:13.56 MHz

軟件
操作系統:基于Windows的配方管理,符合SECS / GEM。
符合SEMI標準:E30,E39,E40,E87,E90,E94

性能
環境清潔度:1級(ISO 3)
工作溫度范圍:50-250°C
溫度均勻度:穩定后±1.5%
腔室壓力控制:200 mT至100 T
化學用法:典型工藝1 – 10 mL
正常運行時間:> 95%


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解決方案

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