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KLA Zeta-20 白光共聚焦顯微鏡
- 品牌:美國KLA
- 型號: Zeta-20
- 產(chǎn)地:美洲 美國
- 供應(yīng)商報價:面議
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優(yōu)尼康科技有限公司
更新時間:2025-07-14 09:19:20
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銷售范圍售全國
入駐年限第7年
營業(yè)執(zhí)照已審核
- 同類產(chǎn)品Zeta白光共聚焦(2件)
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產(chǎn)品特點
- KLA Zeta-20白光共聚焦顯微鏡基于ZDot技術(shù)而來。Zeta-20 白光共聚焦顯微鏡可以對大部分材料和結(jié)構(gòu)進(jìn)行成像分析,從光滑到高粗糙度、低反射率到高反射率表面、透明到不透明介質(zhì)。KLA Zeta-20白光共聚焦顯微鏡使用模塊化設(shè)計理念,為用戶提供了一系列的硬件和軟件選項來滿足各種不同的測量需求,所有硬件安裝和操作都簡單易用。
詳細(xì)介紹
KLA Zeta-20 白光共聚焦顯微鏡
KLA Zeta-20 白光共聚焦顯微鏡產(chǎn)品介紹:
KLA Zeta-20白光共聚焦顯微鏡基于ZDot技術(shù)而來。Zeta-20 白光共聚焦顯微鏡可以對大部分材料和結(jié)構(gòu)進(jìn)行成像分析,從光滑到高粗糙度、低反射率到高反射率表面、透明到不透明介質(zhì)。KLA Zeta-20白光共聚焦顯微鏡使用模塊化設(shè)計理念,為用戶提供了一系列的硬件和軟件選項來滿足各種不同的測量需求,所有硬件安裝和操作都簡單易用。
KLA Zeta-20 白光共聚焦顯微鏡產(chǎn)品特點:
Zeta-20 白光共聚焦顯微鏡提供多種光學(xué)測試技術(shù),以滿足用戶各種不同領(lǐng)域的測試需求。
ZDotZ點陣三維成像技術(shù)是Zeta所有系列產(chǎn)品的標(biāo)配技術(shù),Z點陣獨特的明暗場照明方案結(jié)合不同物鏡幫助客戶測量“困難”的表面。
ZIC干涉反襯成像技術(shù),實現(xiàn)納米級粗糙度表面的成像及分析。
ZSI白光差分干涉技術(shù),垂直方向分辨率可達(dá)埃級。
ZI 白光干涉技術(shù),大視場下納米級高度的理想測量技術(shù)。
ZFT反射光譜膜厚分析技術(shù),集成寬頻反射光譜分析儀,可測量ULA+ 2et-20薄膜材料的厚度、折射率和反射率。
KLA Zeta-20 白光共聚焦顯微鏡產(chǎn)品優(yōu)勢:
重復(fù)性和再現(xiàn)性
接觸式測量,適用于多種材料
測量軟材料的微力控制
梯形失真校正可大幅度減少側(cè)視圖造成的失真
弧形校正補(bǔ)償探針的弧形運動
KLA Zeta-20 白光共聚焦顯微鏡產(chǎn)品測量原理:
KLA Zeta-20 白光共聚焦顯微鏡的原理是通過共聚焦原理實現(xiàn)樣品的高分辨率、高對比度的光學(xué)切片能力。它結(jié)合了傳統(tǒng)光學(xué)顯微鏡和激光共聚焦顯微鏡的特點,利用寬譜白光作為光源,通過空間濾波機(jī)制消除離焦光干擾,從而獲得高精度的三維圖像。
KLA Zeta-20 白光共聚焦顯微鏡主要應(yīng)用:
臺階高度
紋理
外形
應(yīng)力
薄膜厚度
缺陷檢測
KLA Zeta-20 白光共聚焦顯微鏡產(chǎn)品參數(shù):
ZDOT
ZI
ZIC
ZSI
ZFT
粗糙度:> 40nm
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粗糙度:<40nm
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大視場、Z方向高分辨率
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15nm-25mm臺階高度
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5nm-100μm臺階高度
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<10nm 臺階高度
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缺陷:尺寸 <1μm,高度 <75nm
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缺陷:尺寸 >1μm,高度 >75nm
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30nm<薄膜和厚度 <15μm
薄膜厚度 >15μm
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KLA Zeta-20 白光共聚焦顯微鏡測量圖:
自動缺陷檢查
臺階高度
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技術(shù)資料