無掩模光刻可以隨意進行納米圖案化，而不需要緩慢且昂貴的光掩模。這種便利對于研究和快速原型制作特別有用。 POLOS? Beam 在不影響性能的情況下將其帶到桌面上，從而補充了現有的優勢。

當配備405 nm引擎和20倍物鏡時，光束引擎能夠在4″ 晶圓上產生小于 (CD) 0.8 um 的特征。

小型

全功能無掩模光刻機，比臺式電腦還小。

高效

亞微米分辨率，同時在不到兩秒的時間內曝光寫入區域。

超快自動對焦

壓電致動器與我們的閉合環形對焦光學元件相結合，可在不到一秒的時間內完成對焦

輕松實現多層對齊

半自動對齊可在幾分鐘內完成多層對齊。

應用范圍擴展至微機電系統 (MEM)、生物醫學設備和微電子器件的設計和制造，例如以下領域：

醫療（包括微流體）
半導體
微電子
生物技術和生命科學
先進材料研究
市場趨勢與機遇